[发明专利]一种自清洁人工晶状体及其制备方法在审
| 申请号： | 202010010030.6 | 申请日： | 2020-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN111110397A | 公开（公告）日： | 2020-05-08 |
| 发明（设计）人： | 谢曦;陈伟蓉;刘冬;吴倩妮 | 申请（专利权）人： | 中山大学中山眼科中心 |
| 主分类号： | A61F2/16 | 分类号： | A61F2/16;A61L27/34;A61L27/50 |
| 代理公司： | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人： | 曹爱红 |
| 地址： | 510060 *** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 清洁 人工 晶状体 及其 制备 方法 | ||
1.一种自清洁人工晶状体的制备方法，其特征在于，其具体步骤是：
(1)用无菌双蒸水冲洗人工晶状体材料表面，氮气流吹干；
(2)利用等离子体清洗仪的等离子束对人工晶状体材料表面进行改性，通入O2形成氧离子束对人工晶状体表面冲击产生自由基，使人工晶状体表面形成一定凸起的微纳结构；
(3)利用化学气象沉积法将等离子束处理后的人工晶状体材料表面接枝聚二甲基硅氧烷(PDMS)分子链；
(4)将接枝后的自清洁人工晶状体进行环氧乙烷灭菌封装。
2.根据权利要求1所述的自清洁人工晶状体的制备方法，其特征在于：所述人工晶状体材料为疏水性丙烯酸酯或亲水性丙烯酸酯或硅凝胶水凝胶中的一种。
3.根据权利要求2所述的自清洁人工晶状体的制备方法，其特征在于：所述人工晶状体材料为疏水性丙烯酸酯。
4.根据权利要求1所述的自清洁人工晶状体的制备方法，其特征在于：上述步骤(2)中人工晶状体表面凸起的微纳结构高度约为1-20nm。
5.根据权利要求1所述的自清洁人工晶状体的制备方法，其特征在于：上述步骤(2)中等离子体清洗仪的功率为60W，清洗时间为10s。
6.根据权利要求1所述的自清洁人工晶状体的制备方法，其特征在于：所述聚二甲基硅氧烷(PDMS)的分子量为3000-10000g/mol。
7.根据权利要求6所述的自清洁人工晶状体的制备方法，其特征在于：所述聚二甲基硅氧烷(PDMS)末端基团包括但不限于氨基、羟基。
8.根据权利要求1所述的自清洁人工晶状体的制备方法，其特征在于：上述步骤(3)中，所述人工晶状体表面接枝聚二甲基硅氧烷(PDMS)的反应温度为80-100℃，反应时间24-72小时。
9.根据权利要求7所述的自清洁人工晶状体的制备方法，其特征在于：所述人工晶状体表面接枝率为20％-70％。
10.一种根据权利要求1至8任一项所述的自清洁人工晶状体的制备方法制得的人工晶状体。
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