[发明专利]一种同时制备邻二醇和吡咯甲氧基化产物的电化学方法

权利要求书

1.一种同时制备邻二醇和吡咯甲氧基化产物的电化学方法，该方法包括在阴极发生酮类转变为邻二醇的反应，在阳极发生吡咯的甲氧基化反应，其中，阴极材料由基材和镀层金属构成，基材选自石墨或玻璃碳电极，镀层金属为主体金属和掺杂金属，其中主体金属包括钛、钽、铌、钼、钨中的一种或多种；掺杂金属选自铂族金属中的一种或多种，主体金属占整个镀层金属的质量分数为95%-99%，剩下是掺杂金属，其中，酮类具有式（I）的结构：

（I），

邻二醇具有式（II）的结构：

（II），

在式（I）和（II）中，R¹与R²不同，且各自独立的选自甲基、乙基、异丙基、丁基、苯基、4-氯苯基、4-溴苯基、2-吡啶基、4-羟基苯基中的一种；

吡咯具有式（III）的结构：

（III），

吡咯的甲氧基化产物具有式（IV）的结构：

（IV），

在式（III）和（IV）中，R⁵选自甲基、乙基、卞基中的一种；R³、R⁴各自独立的选自甲基、乙基、正丙基、氢、羟甲基的一种。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，式（I）的化合物选自甲基苯基酮、2-吡啶基乙基酮、乙基苯基酮、甲基异丙基酮、2-吡啶基甲基酮。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在阴极反应中加入手性配体。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，该手性配体选自下式化合物中的一种或多种：

其中Ph为苯基，nPr为正丙基。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，该手性配体选自配体(A)、配体(B)、配体(E)和配体(G)中的一种或多种；手性配体的加入量为相对于原料酮类质量的0.5-10%。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，手性配体的加入量为相对于原料酮类质量的1%-5%。

7.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，基材选自玻璃碳电极。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，掺杂金属选自铂、钯、铱、钌、铑中的一种或多种。

9.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，主体金属占整个镀层金属的质量分数为96-98%，剩下是掺杂金属。

10.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，基材表面的粗糙度Ra为0.1微米-1微米。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，基材表面的粗糙度Ra为0.2微米-0.5微米。

12.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在阴极反应中加入电解质，所述电解质选自高氯酸锂、硫酸钠、硝酸钠、四丁基高氯酸铵、氯酸钾、氟化锂、四甲基六氟膦酸铵、高氯酸钾、溴化钠、甲醇钾中的一种或多种，电解质的加入量为相对于原料酮质量的0.1-10%。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述电解质选自高氯酸锂、四丁基高氯酸铵、四甲基六氟膦酸铵、高氯酸钾、溴化钠中的一种或多种。

14.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，电解质的加入量为相对于原料酮质量的0.5-5%。

15.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，反应使用无隔膜电解槽进行。

16.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，阳极材料由钛基材和镀层构成，镀层材料选自铱和钽两种元素。