[发明专利]一种新型导电膜及其制作方法

说明书

本发明公开了一种新型导电膜的制作方法，该方法包括：制备一导电膜，导电膜包括透明基底、位于透明基底上具有图形凹槽的结构层，以及嵌设于图形凹槽中具有异常的导电网格；在导电网格表面制备一表面平整的金属层，金属层还填充导电网格的异常处，金属层与导电网格的导电率一致。本发明还公开了一种新型导电膜，包括透明基底、位于透明基底上具有图形凹槽的结构层，以及嵌设于图形凹槽中的导电网格和覆盖导电网格的金属层，其中，导电网格具有异常，金属层还填充导电网格表面的异常处。通过上述方法，可以实现批量生产电阻率均一的新型导电膜，成品率高，工艺简单可靠，且生产的新型导电膜的性能优良。

技术领域

本发明涉及导电膜技术领域，特别是涉及一种新型导电膜及其制作方法。

背景技术

透明导电膜因其透过率高，导电性能好，广泛的应用在触控屏、电磁屏蔽、光伏器件等领域，随着科学技术的发展，越来越多的电子器件朝着柔性化，轻薄化发展，对透明导电膜的需求日益增加。

ITO(Indium tin oxide，氧化铟锡)透明导电膜是目前应用最多的导电膜，但其柔性差、受温度影响大、且制造成本高、有毒、污染大。为克服ITO导电膜的缺点，UV压印法被越来越多的用在透明导电膜制造上面。UV压印法，用模具通过卷对卷压印工艺，在UV层压印出图形凹槽，然后填充导电墨水，经烧结形成导电网格。导电墨水用的比较多的铜或银的纳米浆料。但是这种填充导电墨水方法，因填充的均匀性与烧结导致基材的微变形，会造成表面粗糙或导电网格的不均匀，以及一定几率的断路。如此会影响导电膜导电性能以及使导电膜的导电率不均一，进而影响触摸屏的感应灵敏度。

前面的叙述在于提供一般的背景信息，并不一定构成现有技术。

发明内容

本发明的目的在于提供一种电阻率均一的新型导电膜及其制作方法。

本发明提供一种新型导电膜的制作方法，该方法包括：

制备一导电膜，所述导电膜包括透明基底、位于所述透明基底上具有图形凹槽的结构层，以及嵌设于所述图形凹槽中具有异常的导电网格；

在所述导电网格表面制备一表面平整的金属层，所述金属层还填充所述导电网格的异常处，所述金属层与所述导电网格的导电率一致。

在其中一实施例中，所述导电网格的材质为纯度95％的银浆料或银合金浆料。

在其中一实施例中，在所述制备一导电膜的步骤中，所述导电膜的具体制作方法为：

提供一所述透明基底；

在所述透明基底上涂布一层UV胶，形成所述结构层；

提供一具有所述图形凹槽的模具；

将所述模具压印在所述结构层上，在所述结构层上形成所述图形凹槽；

固化所述结构层后脱模；

将所述导电材料刮涂在所述图形凹槽内；

固化导电材料形成所述导电网格，得到所述导电膜。

在其中一实施例中，在形成所述导电网格的步骤中：采用110摄氏度到130摄氏度对所述导电材料烧结30-60min，形成所述导电网格。

在其中一实施例中，在所述制备一表面平整的金属层的步骤中，所述金属层的具体制作方法为：

提供一槽体，将所述导电膜平铺放入所述槽体内固定；

对所述导电网格进行敏化处理；

提供PH值在10-12的化学铜镀液；

将所述化学铜镀液倒入所述槽体内；