[发明专利]光源结构、色轮及投影装置在审
申请号: | 202010015489.5 | 申请日: | 2020-01-07 |
公开(公告)号: | CN113156750A | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 郭祖强;杨炳柯;王则钦;李屹 | 申请(专利权)人: | 深圳光峰科技股份有限公司 |
主分类号: | G03B21/20 | 分类号: | G03B21/20;G02B26/00 |
代理公司: | 深圳市智圈知识产权代理事务所(普通合伙) 44351 | 代理人: | 刘云青 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光源 结构 投影 装置 | ||
1.一种光源结构,其特征在于,包括:
激光光源,用于发射激发光;
色轮,包括同心设置的内圈和外圈,所述内圈包括光转换区,所述光转换区在所述激发光的激发下产生受激光,所述外圈包括第一引导区和第二引导区,所述第一引导区和所述第二引导区均用于引导所述激光光源发射的激发光;
第一引导组件,用于引导自所述第一引导区出射的激发光沿出射光路出射;以及
第二引导组件,用于将自所述第二引导区出射的激发光引导至所述光转换区,还用于将从所述光转换区出射的受激光引导至所述出射光路。
2.根据权利要求1所述的光源结构,其特征在于,所述第二引导区对应的圆心角等于所述光转换区对应的圆心角。
3.根据权利要求1所述的光源结构,其特征在于,所述光转换区包括第一荧光区和第二荧光区,所述第一荧光区在所述激发光的激发下产生第一荧光,所述第二荧光区在所述激发光的激发下产生第二荧光,所述光源结构还包括合光装置,所述第一荧光、所述第二荧光和自所述第一引导区出射的激发光经所述合光装置的合光后沿所述出射光路出射。
4.根据权利要求1所述的光源结构,其特征在于,所述光源结构还包括第一反射镜,所述第一反射镜位于所述激光光源和所述色轮之间,用于将所述激光光源出射的激发光反射至所述色轮,并使所述激发光入射至所述色轮外圈时的入射角为锐角。
5.根据权利要求1所述的光源结构,其特征在于,所述光源结构还包括第二反射镜,所述第二反射镜相对所述色轮所在平面呈锐角倾斜,所述第二反射镜用于将入射至所述第一引导区的激发光反射至所述第一引导组件。
6.根据权利要求5所述的光源结构,其特征在于,所述第一引导组件包括第三反射镜,所述第三反射镜用于反射自所述第一引导区出射的激发光,所述第二反射镜和所述第三反射镜分别设置在所述色轮的相对两侧,入射至所述第一引导区的激发光被引导至所述第二反射镜,所述激发光经过所述第二反射镜的反射后进入所述第一引导区并出射至所述第三反射镜,所述第三反射镜将所述激发光反射至所述出射光路。
7.根据权利要求1所述的光源结构,其特征在于,所述第一引导区所在平面相对所述第二引导区所在平面倾斜设置,所述第一引导区用于将入射的激发光反射至所述第一引导组件。
8.根据权利要求1所述的光源结构,其特征在于,所述第二引导组件包括第四反射镜和第一二向色片,入射至所述第二引导区并被所述第二引导区引导出射的激发光被所述第四反射镜反射至所述第一二向色片,所述第一二向色片用于将来自所述第四反射镜的激发光引导至所述光转换区,并用于引导所述光转换区激发产生的受激光。
9.根据权利要求1所述的光源结构,其特征在于,所述光源结构还包括合光装置和匀光装置,自所述第二引导组件出射的受激光被所述合光装置引导至所述匀光装置,自所述第一引导组件出射的激发光被所述合光装置引导至所述匀光装置。
10.根据权利要求1至9任一所述的光源结构,其特征在于,所述光源结构还包括补充光源和第二二向色片,所述补充光源用于发射补充光,所述第二二向色片位于所述色轮和所述第一引导组件之间,用于将所述第一引导区出射的激发光以及所述补充光源发射的补充光引导至所述第一引导组件。
11.一种色轮,其特征在于,所述色轮包括同心设置的内圈和外圈,所述外圈包括第一引导区和第二引导区,所述第一引导区和所述第二引导区分别用于引导入射至其上的激发光,且使所述激发光沿不同的方向出射,所述内圈包括光转换区,所述光转换区用于在所述激发光的激发下产生受激光。
12.根据权利要求11所述的色轮,其特征在于,所述第一引导区所在平面相对所述第二引导区所在平面倾斜设置,所述第一引导区用于反射所述激发光。
13.一种投影装置,其特征在于,包括如权利要求1-10任一项所述的光源结构。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳光峰科技股份有限公司,未经深圳光峰科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010015489.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:长晶炉及晶体生长系统
- 下一篇:页面生成方法、装置、设备和介质