[发明专利]一种低介电常数的POSS改性感光阻焊油墨及其制备方法

权利要求书

1.一种低介电常数的POSS改性感光阻焊油墨，其特征在于，包括以下按重量份计的组分：

所述改性POSS通过以下方法制备而成：

按质量比1：1-5，将POSS、硅烷偶联剂在超声下混合均匀，得到改性POSS。

2.根据权利要求1所述的低介电常数的POSS改性感光阻焊油墨，其特征在于，所述感光树脂为双酚A型环氧丙烯酸树脂、双酚F型环氧丙烯酸树脂、聚酯丙烯酸树脂或丙烯酸共聚树脂中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的低介电常数的POSS改性感光阻焊油墨，其特征在于，所述聚酰亚胺树脂为波米科技有限公司的聚酰亚胺ZKPI-5500。

4.根据权利要求1所述的低介电常数的POSS改性感光阻焊油墨，其特征在于，所述硅烷偶联剂为乙烯基三甲氧硅烷。

5.根据权利要求1所述的低介电常数的POSS改性感光阻焊油墨，其特征在于，所述活性丙烯酸单体稀释剂为选自丙烯酸、2-苯氧基乙基丙烯酸酯、四氢呋喃丙烯酸酯、甲基丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸、丙烯酸己内酯、丙烯酸异冰片酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯中的一种或多种。

6.根据权利要求1所述的低介电常数的POSS改性感光阻焊油墨，其特征在于，所述光引发剂为2-羟基-甲基苯基丙烷-1-酮、1-羟基环己基苯基甲酮、安息香双甲醚、2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、异丙基硫杂蔥酮(2、4异构混合)、4-(N,N-二甲氨基)苯甲酸乙酯、二苯甲酮、4-氯二苯甲酮中的一种或多种。

7.根据权利要求1所述的低介电常数的POSS改性感光阻焊油墨，其特征在于，所述助剂为促进剂、消泡剂、流平剂或分散剂中的一种或多种。

8.权利要求1-7中任一项所述的低介电常数的POSS改性感光阻焊油墨的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将感光树脂、聚酰亚胺树脂、活性丙烯酸单体稀释剂、颜料混合均匀，得到混合物；

(2)将混合物、改性POSS、光引发剂、助剂混合均匀，得到低介电常数的POSS改性感光阻焊油墨。