[发明专利]一种固体降阻剂连续混配装置及方法有效
申请号: | 202010017709.8 | 申请日: | 2020-01-08 |
公开(公告)号: | CN113083044B | 公开(公告)日: | 2022-07-05 |
发明(设计)人: | 陈鹏飞;常宏岗;熊钢;刘友权;张亚东;周承美;廖珈 | 申请(专利权)人: | 中国石油天然气股份有限公司 |
主分类号: | B01F21/10 | 分类号: | B01F21/10;B01F35/32;B01F35/71;B01F35/75;C09K8/68;C09K8/88;E21B43/26 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 张德斌;闫加贺 |
地址: | 100007 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 固体 降阻剂 连续 配装 方法 | ||
1.一种固体降阻剂连续混配装置,其特征在于,所述固体降阻剂连续混配装置包括原料储存装置、气动原料输送装置、动力装置、流量测试装置、溶解装置、供水装置;
其中,所述原料储存装置连接所述气动原料输送装置,用于向气动原料输送装置提供固体降阻剂;
所述气动原料输送装置分别连接所述原料储存装置、所述动力装置和所述流量测试装置,用于以压缩空气为动力源将原料储存装置中的固体降阻剂输送至所述溶解装置;
所述溶解装置连接所述流量测试装置,用于溶解固体降阻剂;其中,所述溶解装置为齿轮泵、柱塞泵、柱塞泵或乳化泵;
所述供水装置与所述溶解装置连接,该供水装置用于为溶解装置提供用于溶解固体降阻剂的水;
所述动力装置连接所述气动原料输送装置,用于向气动原料输送装置提供作为动力源的压缩空气;
所述流量测试装置设于所述气动原料输送装置和所述溶解装置之间,用于测量由气动原料输送装置输送至溶解装置的固体降阻剂的流量,根据该流量调整所述气动原料输送装置的原料输送速率;所述气动原料输送装置与所述原料储存装置通过第一管线连接;所述气动原料输送装置与所述动力装置通过第二管线连接;所述气动原料输送装置与所述流量测试装置通过第三管线连接;所述溶解装置与所述流量测试装置通过第四管线连接,所述供水装置与所述溶解装置通过第六管线连接;其中,所述第一管线的管长为0.2m~0.5m,所述第一管线的管径为4mm~8mm;所述第二管线的管长为1m~3m,所述第二管线的管径为1mm~5mm;所述第三管线的管长为1m~2m,所述第三管线的管径为8mm~15mm;所述第四管线的管长为2m~3m,所述第四管线的管径为8mm~15mm,所述第六管线的管长为1m~10m,管径为10mm~20mm。
2.根据权利要求1所述的固体降阻剂连续混配装置,其特征在于,所述第一管线、第二管线、第三管线和第四管线的材质均为透明塑料。
3.根据权利要求1或2所述的固体降阻剂连续混配装置,其特征在于,所述固体降阻剂连续混配装置还包括与所述溶解装置连接的混砂装置,该混砂装置用于将溶解装置溶解的固体降阻剂加注至压裂储层。
4.根据权利要求3所述的固体降阻剂连续混配装置,其特征在于,所述混砂装置与所述溶解装置通过第五管线连接;所述第五管线的管长为10m~20m,管径为15mm~25mm。
5.根据权利要求4所述的固体降阻剂连续混配装置,其特征在于,所述第五管线的材质为不锈钢。
6.根据权利要求1所述的固体降阻剂连续混配装置,其特征在于,所述第六管线的材质为不锈钢。
7.根据权利要求1所述的固体降阻剂连续混配装置,其特征在于,所述原料储存装置的最大容积为50升。
8.根据权利要求1所述的固体降阻剂连续混配装置,其特征在于,所述流量测试装置的量程为0kg/min~25kg/min。
9.根据权利要求1所述的固体降阻剂连续混配装置,其特征在于,所述溶解装置的最大容量为5L。
10.根据权利要求1所述的固体降阻剂连续混配装置,其特征在于,所述气动原料输送装置为离心通风机、离心鼓风机、涡轮式空压机或气动隔膜泵;所述气动原料输送装置的材质为不锈钢。
11.根据权利要求1所述的固体降阻剂连续混配装置,其特征在于,所述动力装置包括空气压缩机。
12.根据权利要求1所述的固体降阻剂连续混配装置,其特征在于,所述溶解装置的腔体内壁材质为不锈钢。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国石油天然气股份有限公司,未经中国石油天然气股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010017709.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种被用于无线通信的节点中的方法和装置
- 下一篇:表层Q模型建立方法及装置