[发明专利]一种PLC控制的选择性催化还原沸石分子筛型的脱硝设备

权利要求书

1.一种PLC控制的选择性催化还原沸石分子筛型的脱硝设备，其结构包括：进气抽管(1)、可编程控制箱(2)、沸石脱硝立罐(3)、连通长管(4)、提气管(5)、鼓风机(6)、传送带架(7)，其特征在于：

所述沸石脱硝立罐(3)嵌套于可编程控制箱(2)的后侧，所述进气抽管(1)插嵌在沸石脱硝立罐(3)的左侧，所述沸石脱硝立罐(3)嵌套于连通长管(4)的右侧，所述连通长管(4)插嵌在鼓风机(6)的左侧，所述鼓风机(6)与传送带架(7)机械连接，所述提气管(5)安设在鼓风机(6)的后侧；

所述沸石脱硝立罐(3)设有电磁气阀体(3A)、活塞缸槽(3B)、工字活塞架(3C)、催化喷淋盘(3D)、电离极板架(3E)、顶层加工室(3F)、脱硝分气槽(3G)、漏斗提升架(3H)；

所述活塞缸槽(3B)与工字活塞架(3C)机械连接，所述电磁气阀体(3A)设有六个并且分别插嵌在活塞缸槽(3B)的左右两侧，所述活塞缸槽(3B)通过电磁气阀体(3A)与催化喷淋盘(3D)相互贯通，所述电离极板架(3E)与电磁气阀体(3A)活动连接，所述催化喷淋盘(3D)与电离极板架(3E)分别安设在顶层加工室(3F)的上下两侧，所述顶层加工室(3F)紧贴于脱硝分气槽(3G)的顶面上，所述漏斗提升架(3H)安装于脱硝分气槽(3G)的内部，所述活塞缸槽(3B)嵌套于可编程控制箱(2)的后侧。

2.根据权利要求1所述的一种PLC控制的选择性催化还原沸石分子筛型的脱硝设备，其特征在于：所述电磁气阀体(3A)由电磁端帽(3A1)、气阀活塞盘(3A2)、阀管槽(3A3)组成，所述气阀活塞盘(3A2)与阀管槽(3A3)机械连接，所述电磁端帽(3A1)安装于阀管槽(3A3)的顶部上。

3.根据权利要求2所述的一种PLC控制的选择性催化还原沸石分子筛型的脱硝设备，其特征在于：所述气阀活塞盘(3A2)由外橡胶厚环(3A21)、凸垫顶块(3A22)、导流弧板(3A23)、通气孔(3A24)组成，所述外橡胶厚环(3A21)与凸垫顶块(3A22)插嵌成一体，所述导流弧板(3A23)与外橡胶厚环(3A21)紧贴在一起，所述通气孔(3A24)安装于外橡胶厚环(3A21)的内部。

4.根据权利要求1所述的一种PLC控制的选择性催化还原沸石分子筛型的脱硝设备，其特征在于：所述催化喷淋盘(3D)由长进气折管(3D1)、吊杆盘座(3D2)、喷淋加注槽(3D3)、喷嘴柱块(3D4)组成，所述长进气折管(3D1)插嵌在吊杆盘座(3D2)的左侧，所述喷淋加注槽(3D3)与喷嘴柱块(3D4)扣合在一起，所述吊杆盘座(3D2)嵌套于喷淋加注槽(3D3)的顶部上。

5.根据权利要求4所述的一种PLC控制的选择性催化还原沸石分子筛型的脱硝设备，其特征在于：所述喷淋加注槽(3D3)由加注倒凹槽(3D31)、弓字催化管(3D32)、分流架管(3D33)、加注阀孔(3D34)组成，所述弓字催化管(3D32)插嵌在分流架管(3D33)的顶部上，所述分流架管(3D33)嵌套于加注阀孔(3D34)的顶部上，所述分流架管(3D33)安装于加注倒凹槽(3D31)的内部。

6.根据权利要求1所述的一种PLC控制的选择性催化还原沸石分子筛型的脱硝设备，其特征在于：所述电离极板架(3E)由极板块(3E1)、极片球帽(3E2)、放射管(3E3)、导线管(3E4)组成，所述极板块(3E1)与极片球帽(3E2)嵌套成一体，所述极片球帽(3E2)与放射管(3E3)扣合在一起，所述极板块(3E1)与导线管(3E4)电连接。

7.根据权利要求6所述的一种PLC控制的选择性催化还原沸石分子筛型的脱硝设备，其特征在于：所述极片球帽(3E2)由碳刷架(3E21)、辊压耳板(3E22)、极片球槽(3E23)、输出帽槽(3E24)组成，所述碳刷架(3E21)与辊压耳板(3E22)相配合，所述辊压耳板(3E22)安装于极片球槽(3E23)的内部，所述极片球槽(3E23)与输出帽槽(3E24)嵌套成一体。