[发明专利]一种无机钙钛矿量子点分布式反馈激光器

权利要求书

1.一种无机钙钛矿量子点分布式反馈激光器，其特征在于，由ITO透明基底、无机钙钛矿CsPbX₃量子点发光层、全息聚合物分散液晶光栅组成。

2.根据权利要求1所述的无机钙钛矿量子点分布式反馈激光器，其特征在于，所述的无机钙钛矿CsPbX₃量子点发光层为增益介质层。

3.根据权利要求1所述的无机钙钛矿量子点分布式反馈激光器，其特征在于，全息聚合物分散液晶光栅为谐振腔。

4.根据权利要求1～3所述的无机钙钛矿量子点分布式反馈激光器的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）取CsPbX₃量子点的分散液旋涂在洁净的ITO透明基板上，形成无机钙钛矿CsPbX₃量子点发光层；

（2）将涂有量子点的透明基板与另一片干净的透明基板堆叠，用隔垫物在基板四个角隔开，用固化胶封边，制备成液晶盒，所述液晶盒厚度为3-20 μm；

（3）在暗室中，将50～70wt.%光敏单体、20～40wt.%液晶、0.01～10wt.%光引发剂、0.01～10wt.%共引发剂、5～20wt.%交联剂混合均匀形成预聚物溶液，并通过毛细作用注入到上述液晶盒中；

（4）将注入预聚物溶液的液晶盒在两束相干光下曝光，形成干涉图案，经固化后得到无机钙钛矿量子点分布式反馈激光器。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，步骤1中，所述的CsPbX₃量子点中的X为Cl、Br、I元素或者任意二者组合，CsPbX₃量子点的分散液为CsPbX₃量子点分散在正辛烷或者甲苯溶剂中，分散液的浓度为5~20 mg/ mL，旋涂速度为1500~3000 r/min，旋涂时间为30~60 s。

6. 根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，步骤1中，所述透明基底为玻璃、硅片等硬性基底，或者聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯（PEN）、聚甲基丙烯酸甲酯 (PMMA)超薄玻璃等柔性基底。

7.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，步骤3中，所述光敏单体为二季戊四醇羟基五丙烯酸酯 （DPHPA）、邻苯二甲酸二烯二醇酯（PDDA）、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯（TMPTA）、季戊四醇三丙烯酸酯（PETA）中的一种或者几种。

8. 根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，步骤3中，所述液晶为TEB30A、E7、5CB、7CB、8CB中的一种或者几种；所述光引发剂为孟加拉玫瑰红、Irgacure 784、薯红Y、罗丹明6G、亚甲基蓝、香豆素6、香豆素343、二碘荧光素中的一种或者几种。

9.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，步骤3中，所述共引发剂为N-苯基甘氨酸(NPG)、三乙醇胺(TEA)、乙酰苯基甘氨酸(APG)、3-溴苯基甘氨酸(3-PTG)、N-苯基甘氨酸乙酯(NPGEE)、对苯基甘氨酸(PPG)中的一种或者几种；所述交联剂为N-乙烯基吡咯烷酮(NVP)、邻苯二甲酸二丁酯（DBP）、邻苯二甲酸二环己酯(DCHP)和邻苯二甲酸二异丁酯(DIBP)中的一种或者几种。

10.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，步骤4中，所述两束相干光形成干涉图案的激光光源为波长400～550nm的连续激光，曝光光强为1～20mW/cm²。