[发明专利]等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，具备：

腔室；

基板支承器，其具有下部电极和设置在该下部电极上的静电卡盘，并且构成为在所述腔室内支承被载置在所述静电卡盘上的基板；

高频电源，其构成为产生为了在所述腔室内生成等离子体而供给的高频电力；

偏置电源，其构成为产生偏置电力；

第一电路径，其将所述偏置电源与所述下部电极彼此电连接；

第二电路径，其与所述第一电路径及所述下部电极相分别，且被设置为从所述下部电极或所述第一电路径向以包围所述基板的边缘的方式配置的边缘环供给所述偏置电力；以及

阻抗调整器，其向所述第二电路径提供可变阻抗。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第一电路径包括多个导电线路，

所述多个导电线路将所述下部电极与所述偏置电源彼此电连接，所述多个导电线路在距所述下部电极的中心轴线的距离相等且相对于该中心轴线在周向上等间隔地排列的多个位置处与所述下部电极连接。

3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第一电路径还包括共用导电线路，所述共用导电线路将所述多个导电线路的各导电线路与所述偏置电源电连接，

所述多个导电线路从所述共用导电线路相对于所述中心轴线沿径向延伸，并且在所述周向上等间隔地排列。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第二电路径包括共用导电线路，所述共用导电线路将所述下部电极或所述第一电路径与所述阻抗调整器彼此电连接。

5.根据权利要求4所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第二电路径的所述共用导电线路在所述下部电极的中心轴线上从所述下部电极延伸，

所述第二电路径还包括相对于所述中心轴线沿径向延伸的多个导电线路，

所述阻抗调整器电连接在所述第二电路径的所述共用导电线路与所述第二电路径的所述多个导电线路的各导电线路之间，

所述第二电路径的所述多个导电线路构成为在距所述中心轴线的距离相等且相对于该中心轴线在周向上等间隔地排列的多个位置处向所述边缘环供给所述偏置电力。

6.根据权利要求5所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第二电路径的所述多个导电线路在所述周向上等间隔地排列。

7.根据权利要求1至6中的任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述阻抗调整器包括可变阻抗元件。

8.根据权利要求7所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述可变阻抗元件为可变容量电容器。

9.根据权利要求4至6中的任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述阻抗调整器包括可变容量电容器，

所述可变容量电容器包括：

筒状的导体，其绕所述第二电路径的所述共用导电线路延伸，与所述第二电路径的所述共用导电线路一同形成容器；以及

液体供给器，其向所述容器内供给具有介电性的液体。

10.根据权利要求4至6中的任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述阻抗调整器包括可变容量电容器，

所述可变容量电容器包括：

筒状的导体，其绕所述第二电路径的所述共用导电线路延伸；

筒状的电介质，其设置于所述第二电路径的所述共用导电线路与所述筒状的导体之间；以及

驱动装置，其使所述筒状的电介质沿所述第二电路径的所述共用导电线路移动。

11.根据权利要求1至10中的任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第二电路径从所述下部电极延伸，并且以从所述下部电极向所述边缘环供给所述偏置电力的方式设置。