[发明专利]基于偏振复用的大视场成像装置及方法有效

专利信息
申请号: 202010024391.6 申请日: 2020-01-10
公开(公告)号: CN111273453B 公开(公告)日: 2022-09-13
发明(设计)人: 李建欣;尹智瑶;郭仁慧;宗毅;段明亮;钱佳敏;宋萍萍;毕书贤 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: G02B27/28 分类号: G02B27/28
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 马鲁晋
地址: 210094 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 基于 偏振 视场 成像 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种基于偏振复用的大视场成像装置,其特征在于,所述装置包括覆盖目标视场的N个光通道,以及接收所有光通道出射光的同轴依次设置的成像物镜(9)和偏振相机(10),所有光通道的出射光均为线偏振光;

每个所述光通道均包括沿光路依次设置的退偏器和线偏振片,与此同时,除了与成像物镜(9)和偏振相机(10)同轴的光通道,其余光通道还包括设置于退偏器与线偏振片之间的若干平面反射镜;

所述N=3,三个光通道分别记为第一光通道、第二光通道和第三光通道,来自目标视场的不同方向的入射光分别从三个光通道入射;其中第一光通道包括沿第一光轴依次同轴设置的第一退偏器(4)、第一线偏振片(5),所述第一光轴与成像物镜(9)和偏振相机(10)同轴;第二光通道包括沿第二光轴依次设置的第二退偏器(1)、第二平面反射镜(2)、第二线偏振片(3);第三通道包括沿第三光轴依次设置的第三退偏器(6)、第三平面反射镜(7)、第三线偏振片(8);

每个所述光通道的线偏振片的透光轴方向均不相同;

所述第二光轴和第三光轴关于第一光轴对称;

所述第二退偏器(1)、第二线偏振片(3)分别与第二平面反射镜(2)同轴,第二退偏器(1)与第二线偏振片(3)不同轴;所述第三退偏器(6)、第三线偏振片(8)分别与第三平面反射镜(7)同轴,第三退偏器(6)与第三线偏振片(8)不同轴;

所述第二线偏振片(3)的透光轴方向为0°,第一线偏振片(5)的透光轴方向为45°,第三线偏振片(8)的透光轴方向为90°。

2.根据权利要求1所述的基于偏振复用的大视场成像装置,其特征在于,所述三个光通道的出射光平行,偏振相机(10)位于成像物镜(9)的成像面上。

3.基于权利要求1至2任意一项所述的基于偏振复用的大视场成像装置的成像方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:

步骤1,来自目标的不同方向的光束分别入射至N个光通道,产生N束线偏振光;

步骤2,N束线偏振光同时入射至成像物镜,成像至偏振相机形成偏振复用的视场目标信息;

步骤3,从偏振复用的视场目标信息中采集N束线偏振光的强度,之后通过偏振解复用处理方法解算出N个光通道中线偏振光的强度,进而获得N个视场的图像信息。

4.根据权利要求3所述的基于偏振复用的大视场成像方法,其特征在于,步骤3所述通过偏振解复用处理方法解算出N个光通道中线偏振光的强度,所用公式为:

式中,IFovi为第i个光通道中线偏振光的强度,为从偏振复用的视场目标信息中采集的第i个光通道对应的线偏振光的强度,i=1,2,…,N,A为由N束线偏振光在偏振相机靶面的投影获得的系数矩阵。

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