[发明专利]基于曲率传感技术的X射线单次曝光成像装置及方法在审

专利信息
申请号: 202010026096.4 申请日: 2020-01-10
公开(公告)号: CN111189859A 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 张军勇;张秀平;张艳丽;周申蕾;朱健强 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G01N23/04 分类号: G01N23/04;G01J9/00
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 张宁展
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 基于 曲率 传感 技术 射线 曝光 成像 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种基于曲率传感技术的X射线单次曝光成像装置,其特征在于,包括X射线源(1)、扩束器(2)、供被测物体(4)放置的第一三维平移台(3)、聚焦透镜Ⅰ(5)、三焦点聚焦透镜(6)、聚焦透镜Ⅱ(7)、探测器(9)、供该探测器(9)放置的第二三维平移台(8)和计算机(10);

所述的X射线源(1)发出的光脉冲经过所述的扩束器(2)进行扩束,扩束后的光束作为入射光束;

所述的入射光束入射到所述的被测物体(4),经该被测物体(4)透射后,依次经过所述的聚焦透镜Ⅰ(5)、三焦点聚焦透镜(6)和聚焦透镜Ⅱ(7)到达所述的探测器(9);

所述的聚焦透镜Ⅰ(5)、三焦点聚焦透镜(6)和聚焦透镜Ⅱ(7)构成一个4f系统,且所述的三焦点聚焦透镜(6)位于该4f系统的频谱面上,所述的4f系统具有三个像面,沿入射光束方向依次为第一像面IP1、第二像面IP2和第三像面IP3,第一像面IP1和第二像面IP2之间的距离与第二像面IP2和第三像面IP3之间的距离均为△z,且△z>0;

所述的被测物体(4)放置于所述的4f系统的物面上,所述的探测器(9)位于所述的4f系统的第二像面IP2上;

所述的探测器(9)的输出端与所述的计算机(10)的输入端连接。

2.根据权利要求1所述的基于曲率传感技术的X射线单次曝光成像装置,其特征在于,所述的扩束器(2)、聚焦透镜Ⅰ(5)、三焦点聚焦透镜(6)、聚焦透镜Ⅱ(7)和探测器(9)与所述的X射线源(1)匹配。

3.根据权利要求1所述的基于曲率传感技术的X射线单次曝光成像装置,其特征在于,所述的计算机(10)具有相应数据记录采集与处理软件,用来记录强度图与数据处理。

4.利用权利要求1-3任一所述的基于曲率传感技术的X射线单次曝光成像装置进行成像的方法,其特征在于,该方法包括下列步骤:

1)开启X射线源(1),该X射线源(1)发出的光脉冲经所述的扩束器(2)扩束后入射到所述的被测物体(4);

移动第一三维平移台(3)和第二三维平移台(8),使所述的探测器(9)上出现该被测物体(4)的强度图,该强度图中包含不重叠的两个衍射强度区域I1(x,y),I2(x,y)和一个像面强度区域I0(x,y),(x,y)为记录面的空间坐标分布;

2)计算机(10)接收探测器(9)输出的强度图,并计算曲率波前传感信号S(x,y),公式如下:

式中,z为X射线源(1)的传播方向;

3)计算被测物体(4)的相位分布公式如下:

其中,和分别表示傅里叶变换和逆傅里叶变换,kx和ky是空间频率;

4)计算被测物体(4)的复振幅分布U(x,y),即成像,公式如下:

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