[发明专利]氧化物陶瓷工件的清洗方法在审
| 申请号： | 202010026914.0 | 申请日： | 2020-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN111151502A | 公开（公告）日： | 2020-05-15 |
| 发明（设计）人： | 熊志红;郑思温 | 申请（专利权）人： | 深圳仕上电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B3/10;C04B41/80;C04B41/91 |
| 代理公司： | 深圳中细软知识产权代理有限公司 44528 | 代理人： | 王志强 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区福*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 氧化物 陶瓷 工件 清洗 方法 | ||
1.一种氧化物陶瓷工件的清洗方法，其特征在于，包括以下过程：
将所述氧化物陶瓷工件置于碱性清洗剂中进行浸泡；
将浸泡后的所述氧化物陶瓷工件用酸溶液进行冲洗，所述冲洗的时间为10s～60s。
2.根据权利要求1所述的氧化物陶瓷工件的清洗方法，其特征在于，所述碱性清洗剂为质量浓度为10％～50％的强碱溶液。
3.根据权利要求2所述的氧化物陶瓷工件的清洗方法，其特征在于，所述强碱溶液为NaOH溶液。
4.根据权利要求1所述的氧化物陶瓷工件的清洗方法，其特征在于，所述浸泡的时间为1h～10h。
5.根据权利要求1～4中任意一项所述的氧化物陶瓷工件的清洗方法，其特征在于，所述碱性清洗剂的温度为40℃～60℃。
6.根据权利要求1所述的氧化物陶瓷工件的清洗方法，其特征在于，所述酸溶液的质量浓度为1％～30％。
7.根据权利要求7所述的氧化物陶瓷工件的清洗方法，其特征在于，所述酸溶液为HNO3溶液。
8.根据权利要求1所述的氧化物陶瓷工件的清洗方法，其特征在于，所述冲洗后，还包括对所述氧化物陶瓷工件依次进行擦洗、水洗、干燥和真空包装的过程。
9.根据权利要求1所述的氧化物陶瓷工件的清洗方法，其特征在于，所述氧化物陶瓷工件为整体由氧化物陶瓷制成的工件，或所述氧化物陶瓷工件为表面设有氧化物陶瓷层的工件。
10.根据权利要求1或9所述的氧化物陶瓷工件的清洗方法，其特征在于，所述氧化物陶瓷工件为氧化钇陶瓷工件。
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