[发明专利]阵列基板、显示面板及显示装置在审

专利信息
申请号: 202010028531.7 申请日: 2020-01-11
公开(公告)号: CN111123597A 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 欧阳祥睿;陈维成 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1368;H04N5/225
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 徐丽;谢蓓
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阵列 显示 面板 显示装置
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板定义有显示区以及被所述显示区围绕的相机孔区,所述相机孔区包括透光区以及围绕所述透光区的走线区,所述阵列基板包括:

基底;

第一导电层,位于所述基底上,所述第一导电层包括绕开所述透光区设置的多条第一导线;

第二导电层,位于所述第一导电层远离所述基底的一侧,所述第二导电层包括绕开所述透光区设置的多条第二导线;

其中,所述第一导电层还包括与所述第一导线绝缘间隔设置的多个第一电容补偿图案,每一所述第一电容补偿图案位于相邻的两条所述第一导线之间;

沿所述阵列基板的厚度方向,每一所述第一电容补偿图案在所述基底上的投影至少与一条所述第二导线的投影重叠。

2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第二导电层还包括与所述第二导线绝缘间隔设置的多个第二电容补偿图案,每一所述第二电容补偿图案位于相邻的两条所述第二导线之间;

沿所述阵列基板的厚度方向,每一所述第二电容补偿图案在所述基底上的投影至少与一条所述第一导线的投影重叠。

3.如权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述第一导线包括多条第一扫描线,每一所述第一扫描线绕开所述透光区、跨越所述走线区并在所述显示区内沿第一方向延伸;

相邻的两条所述第一扫描线之间设置有所述第一电容补偿图案。

4.如权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述第二导线包括多条第一数据线,每一所述第一数据线绕开所述透光区、跨越所述走线区并在所述显示区内沿第二方向延伸;

所述第二方向与所述第一方向交叉;

相邻的两条所述第一数据线之间设置有所述第二电容补偿图案。

5.如权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括多条第二数据线,每一所述第二数据线绕开所述透光区、跨越所述走线区并在所述显示区内沿所述第二方向延伸;

在所述第一方向上,所述第二数据线与所述第一数据线依次交替排布;

所述第一导线还包括多条辅助数据线,所述第二导线还包括多条数据线引线,每一所述辅助数据线位于所述走线区,每一所述数据线引线电性连接一条所述辅助数据线并在所述走线区和所述显示区内沿所述第二方向延伸;

每一所述第二数据线包括一条所述辅助数据线和一条所述数据线引线。

6.如权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,相邻的两条所述辅助数据线之间设置有所述第一电容补偿图案。

7.如权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,相邻的所述第一数据线和所述第二数据线之间设置有所述第二电容补偿图案。

8.如权利要求7所述的阵列基板,其特征在于,所述第二导线还包括多条第三数据线;

每一所述第三数据线绕开所述透光区、跨越所述走线区并在所述显示区内沿所述第二方向延伸;

在所述第一方向上,所述第三数据线位于所述第一数据线和所述第二数据线远离所述透光区的一侧;

相邻的两条所述第三数据线之间设置有所述第二电容补偿图案。

9.一种显示面板,包括彩色滤光片基板、液晶层以及阵列基板,所述液晶层夹设于所述彩色滤光片基板与所述阵列基板之间,其特征在于,所述阵列基板为如权利要求1至8中任意一项所述的阵列基板。

10.一种显示装置,其特征在于,包括:

如权利要求9所述的显示面板;

背光模组,所述背光模组位于所述显示面板背离其显示面的一侧,所述背光模组定义有贯穿所述背光模组的安装孔,所述安装孔对准所述透光区;以及

摄像模组,所述摄像模组安装于所述安装孔内并通过所述透光区采集影像信息。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司,未经鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010028531.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top