[发明专利]检测单个晶体结构中的异常的方法

权利要求书

1.一种检测晶体学结构(50)中的异常的方法，所述方法包括：

在相对于晶体学取向的已知方向上利用x射线辐射对所述结构进行照明；

对所述结构进行定位使得所述结构的晶体学取向是已知的；

对透射穿过所述结构的衍射的所述x射线辐射的图案进行检测；

基于相对于所述晶体学取向的所述已知方向来生成模拟的所述图案；

将所检测图案与在所述已知方向上进行照明的x射线辐射的模拟图案进行比较；并且，

基于所述比较来检测所述晶体学结构中的所述异常。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述定位步骤包括基于对所述结构的所述晶体学取向的测量来控制机器以控制所述结构的所述取向。

3.根据权利要求1所述的方法，包括：

测量所述结构的所述晶体学取向。

4.根据权利要求3所述的方法，其中使用劳厄背反射或空间分辨声音光谱学测量所述结构的所述晶体学取向。

5.根据权利要求1所述的方法，其中针对相对于所述晶体学取向的多个不同方向来执行所述照明步骤和所述检测步骤。

6.根据权利要求5所述的方法，其中在每个照明步骤之前重新定位所述结构，以便控制相对于所述晶体学取向的所述方向。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述照明步骤的所述x射线辐射为源自x射线源的x射线光束。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述照明步骤的所述x射线辐射由定位在所述x射线源的下游的准直器准直以提供所述x射线光束。

9.根据权利要求1所述的方法，其中根据埃瓦尔德构造来生成所述模拟图案。

10.根据权利要求1所述的方法，包括：

在所述比较步骤之前，通过应用基于全局噪声估计的滤波器、中值滤波器和高斯滤波器中的至少一者来减少所检测图案中的图像噪声；以及

在所述比较步骤之前，通过应用侵蚀、扩张和拉普拉斯滤波器中的至少一者来对所检测图案执行图像优化。

11.根据权利要求1所述的方法，其中所述晶体学结构为金属合金。

12.根据权利要求1所述的方法，其中所述晶体学结构为航空航天部件。

13.根据权利要求1所述的方法，其中所述晶体学结构为用于飞行器引擎的涡轮的叶片(50)。

14.一种分析x射线衍射信号的方法，所述方法包括：

确定产生所述x射线衍射信号的x射线辐射相对于单个晶体结构的晶体学取向的照明方向；

将所述x射线衍射信号与在所确定方向上进行照明的x射线辐射的模拟图案进行比较；以及

基于所述比较来检测所述单个晶体结构中的异常。

15.一种用于检测金属合金的所述单个晶体结构中的缺陷的分析方法的用途，其中所述分析方法根据权利要求1或权利要求14所述。