[发明专利]一种耐磨低衰减型抗静电保护膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010032209.1 申请日: 2020-01-13
公开(公告)号: CN111169117A 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 叶爱磊;王磊;沈卫国 申请(专利权)人: 泰兴联创绝缘材料有限公司
主分类号: B32B17/00 分类号: B32B17/00;B32B17/10;B32B27/36;B32B27/06;B32B7/06;B32B38/00;B32B38/16;C09D175/14;C09D163/10;C09D5/24;C09D7/61;C09D7/63;C09D127/06;C09D171/0
代理公司: 北京天盾知识产权代理有限公司 11421 代理人: 解敬文;施艳荣
地址: 225400 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 耐磨 衰减 抗静电 保护膜 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种耐磨低衰减型抗静电保护膜,所述保护膜从上至下依次包括:耐磨防静电层1、钢化玻璃层2、PET基材层3和离型膜层4;其特征在于:所述耐磨防静电层包括位于上表面的表层以及位于表层和钢化玻璃层之间的底层;

进一步优选的,所述表层由以下成分组成:三氟甲磺酸锂2-4份、双三氟甲烷磺酰亚胺锂3-5份、丙烯酸甲酯35-42份、聚氨酯丙烯酸酯15-20份、环氧丙烯酸酯5-8份、过氧化二乙酰1-2份、二苯基二氯硅烷2.5-3份、二苯甲酮12-15份、纳米二氧化钛6-8份、癸基三甲氧基硅烷0.1-2份、正硅酸乙酯2-4重量份、光引发剂0.5-3重量份、流平剂0.5-2重量份、硅烷偶联剂0.5-4重量份和苯二甲酸二乙酯10-12份;

进一步优选的,所述底层由以下成分组成:聚氯乙烯20-25份、聚氨酯丙烯酸酯25-32重量份、聚乙二醇二丙烯酸酯8-12重量份、蓝光吸收剂欧稳德TM478-10重量份、聚氨酯丙烯酸酯15-18重量份、环氧丙烯酸酯12-15重量份、聚醚多元醇PPG-6005-10重量份、纳米二氧化硅粉5-10重量份、光引发剂0.1-3重量份、流平剂0.5-2重量份和硅烷偶联剂2-4重量份。

2.如上述权利要求所述的保护膜,进一步优选的,所述表层由以下成分组成:三氟甲磺酸锂3份,双三氟甲烷磺酰亚胺锂4份,丙烯酸甲酯36-40份、聚氨酯丙烯酸酯16-18份、环氧丙烯酸酯6-7份、过氧化二乙酰1-2份、二苯基二氯硅烷2.5-3份、二苯甲酮12-15份、纳米二氧化钛6-8份、癸基三甲氧基硅烷1-2份;正硅酸乙酯3-4重量份,光引发剂1-2重量份,流平剂1-2重量份,硅烷偶联剂1-3重量份,苯二甲酸二乙酯10-12份。

3.如上述权利要求所述的保护膜,进一步优选的,所述底层由以下成分组成:聚氯乙烯22-24份,聚氨酯丙烯酸酯26-30重量份,聚乙二醇二丙烯酸酯10-11重量份,蓝光吸收剂欧稳德TM478-10重量份,聚氨酯丙烯酸酯16-17重量份,环氧丙烯酸酯13-14重量份,聚醚多元醇PPG-6006-8重量份,纳米二氧化硅粉6-8重量份,光引发剂1-2重量份,流平剂1-2重量份,硅烷偶联剂2-4重量份。

4.一种制备上述保护膜的方法,其中包括:

1)按照重量份称取丙烯酸甲酯、聚氨酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、过氧化二乙酰、二苯基二氯硅烷、二苯甲酮、纳米二氧化钛、癸基三甲氧基硅烷、正硅酸乙酯、流平剂、硅烷偶联剂、苯二甲酸二乙酯,将其与有机溶剂100-120份混合,使物料充分分散,然后在50-55℃密闭反应4.5-5小时,再加入三氟甲磺酸锂,双三氟甲烷磺酰亚胺锂和光引发剂,充分分散制得底层涂布液;

2)将制得的底层涂布液涂布于钢化玻璃层表面,在70℃对形成的涂层干燥3min之后,以800mJ/cm2的紫外照度对干燥的涂层进行固化,形成底层;

3)按照重量比称取:聚氯乙烯、聚氨酯丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、蓝光吸收剂欧稳德、聚氨酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、聚醚多元醇PPG-600、纳米二氧化硅粉、光引发剂、流平剂、硅烷偶联剂,将其与有机溶剂100-120份混合,使物料充分分散,制得表层涂布液;

4)将制得的表层涂布液涂布于所述底层表面,在70℃对形成的涂层干燥3min之后,以800mJ/cm2的紫外照度对干燥的涂层进行固化,形成表层。

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