[发明专利]核壳型三氧化钼@氧化钨纳米晶电致变色薄膜的制备方法有效
申请号: | 202010032552.6 | 申请日: | 2020-01-13 |
公开(公告)号: | CN111217537B | 公开(公告)日: | 2020-11-10 |
发明(设计)人: | 王晶;赵九蓬;李垚 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨商业大学 |
主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34;C08J7/06;C08L67/02 |
代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人: | 岳泉清 |
地址: | 150028 黑*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 核壳型三 氧化钼 氧化钨 纳米 晶电致 变色 薄膜 制备 方法 | ||
核壳型三氧化钼@氧化钨纳米晶电致变色薄膜的制备方法,本发明涉及一种纳米晶电致变色薄膜的制备方法,它为了解决现有电致变色薄膜的响应时间较慢,循环稳定性差的问题。制备方法:一、清洗透明导电基底;二、配置MoO3纳米晶的前驱物混合溶液,将导电基底浸渍在MoO3纳米晶的前驱物混合溶液中;三、配置WxOy纳米晶的前驱物混合溶液,向WxOy纳米晶的前驱物混合溶液中滴加掺杂元素溶液,复合薄膜再浸渍在WxOy纳米晶的前驱物混合溶液中,得到电致变色薄膜。本发明基于重度掺杂半导体纳米晶材料的等离子体共振效应,构筑性能优异的核壳纳米晶材料,提高材料的导电性和循环稳定性。
技术领域
本发明涉及一种MoO3@WxOy纳米晶电致变色薄膜的制备方法。
背景技术
无机电致变色材料MoO3、WxOy具有独特的层状结构和优异的电化学活性、成本低、相比于有机导电聚合物材料无毒、稳定性好而备受研究者们的青睐。为了获得性能优异的电致变色薄膜,通常是将MoO3、WxOy纳米化,通过施加外电场或电流实现离子的嵌入和脱出,从而引起颜色可逆变化。然而这一过程是基于传统的氧化还原机制,反应发生在固相材料的表/界面和内部,是动力学过程中相对较慢的步骤,导致材料响应时间较慢。离子多次嵌入、脱出晶格会造成材料结构坍塌、性能衰减,光谱调节范围是可见光的调节能力,红外光调控有限。金属氧化物材料(MoO3、WxOy)还普遍存在导电性低、材料纳米化会增大表面能,导致纳米材料极易无序堆积、团聚,同时还易与电解液发生副反应引起结构劣化,使电化学稳定性变差等问题。
发明内容
本发明的目的是为了解决现有电致变色薄膜的响应时间较慢,循环稳定性差的问题,而提供一种核壳型MoO3@WxOy纳米晶薄膜材料的制备方法。
本发明核壳型MoO3@WxOy纳米晶薄膜材料的制备方法按照下列步骤实现:
一、透明导电基底的清洗:
将透明导电基底依次置于超纯水和无水乙醇中超声清洗,然后再将透明导电基底置于稀盐酸溶液中清洗,最后采用双氧水清洗,得到清洗后的透明导电基底;
二、MoO3纳米晶材料的制备:
将0.001~5mol的钼酸钠固体粉末溶解于超纯水中超声溶解,滴入盐酸继续超声分散溶解,得到MoO3纳米晶的前驱物混合溶液,将清洗后的透明导电基底浸渍在MoO3纳米晶的前驱物混合溶液中,然后在保温箱中以60~200℃的温度恒温处理,得到MoO3纳米晶/透明导电基底复合薄膜;
三、掺杂核壳型MoO3@WxOy纳米晶材料的制备:
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