[发明专利]发光装置及其制造方法在审
| 申请号： | 202010033258.7 | 申请日： | 2016-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN111211206A | 公开（公告）日： | 2020-05-29 |
| 发明（设计）人： | 洪政暐;张瑞夫;洪钦华;林育锋 | 申请（专利权）人： | 新世纪光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/48 | 分类号： | H01L33/48;H01L33/50;H01L33/60 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 罗英;刘芳 |
| 地址： | 中国台湾台南市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 发光 装置 及其 制造 方法 | ||
1.一种发光装置，其特征在于，包括：
基板；
发光元件，设置在所述基板上并与所述基板电性连接；
波长转换层，设置在所述发光元件上；
黏胶层，位于所述发光元件与所述波长转换层之间，其中所述黏胶层覆盖所述发光元件的上表面及至少部分侧表面；及
反射层，设置于所述基板上并环绕所述发光元件、所述黏胶层及所述波长转换层，其中所述反射层具有倾斜的反射面，所述反射面接触部分所述发光元件及部分所述波长转换层，且所述反射面由所述基板朝所述波长转换层的方向逐渐远离所述发光元件；
其中所述发光装置具有平的侧表面，所述侧表面包括所述反射层。
2.如权利要求1所述的发光装置，其特征在于，所述波长转换层包括高密度转换层及低密度转换层。
3.如权利要求第2所述的发光装置，其特征在于，所述高密度转换层位于所述低密度转换层与所述发光元件之间。
4.如权利要求第1所述的发光装置，其特征在于，所述反射面为朝向所述波长转换层的凸面或凹面。
5.如权利要求1所述的发光装置，其特征在于，所述反射层覆盖所述波长转换层的侧表面。
6.如权利要求1所述的发光装置，其特征在于，所述波长转换层的面积等于或大于所述发光元件的面积。
7.如权利要求1所述的发光装置，其特征在于，所述发光装置具有平的侧表面，所述侧表面包括所述反射层。
8.如权利要求1所述的发光装置，其特征在于，所述发光装置具有平的侧表面，所述侧表面包括所述反射层及所述基板。
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