[发明专利]一种边缘整齐、光滑的图案化薄膜电极材料生长方法

权利要求书

1.一种边缘整齐、光滑的图案化薄膜电极材料生长方法，其特征在于，该方法是采用3D打印方法与光刻技术结合生长边缘整齐、光滑的图案化薄膜电极材料。

2.根据权利要求1所述的边缘整齐、光滑的图案化薄膜电极材料生长方法，其特征在于，具体包括以下步骤：

步骤1、在衬底上利用传统光刻技术光刻图案化电极结构；

步骤2、采用3D打印方法打印电极墨水并固化成膜；

步骤3、去胶后获得边缘整齐、光滑的图案化薄膜电极材料。

3.根据权利要求2所述的边缘整齐、光滑的图案化薄膜电极材料生长方法，其特征在于，步骤1具体为：将衬底置于匀胶仪，在其上滴光刻胶，旋涂，软烘；接着将固化光刻胶的衬底用掩膜版遮盖，曝光，显影，获得图案化电极结构。

4.根据权利要求3所述的边缘整齐、光滑的图案化薄膜电极材料生长方法，其特征在于，匀胶仪的转速500r/min，转10s，然后升至2000r/min，转20s。

5.根据权利要求3所述的边缘整齐、光滑的图案化薄膜电极材料生长方法，其特征在于，软烘的温度为65-90℃，时间为5-30分钟。

6.根据权利要求3所述的边缘整齐、光滑的图案化薄膜电极材料生长方法，其特征在于，曝光的时间是15s。

7.根据权利要求3所述的边缘整齐、光滑的图案化薄膜电极材料生长方法，其特征在于，显影的时间为8s。

8.根据权利要求2所述的边缘整齐、光滑的图案化薄膜电极材料生长方法，其特征在于，步骤2具体为：利用3D打印设备，将电极墨水灌入针体，通过电脑屏幕观察移动针尖至接触衬底，设置相关参数，超声谐振打印覆盖电极墨水，打印区域无需精确对准，电极墨水层覆盖图案化电极区域便可，重复打印，直至打印至所需电极厚度。

9.根据权利要求8所述的边缘整齐、光滑的图案化薄膜电极材料生长方法，其特征在于，3D打印设备的参数设置为：打印速度为0.3-0.5mm/s，打印次数为2-3次，打印厚度为40-60nm。

10.根据权利要求2所述的边缘整齐、光滑的图案化薄膜电极材料生长方法，其特征在于，步骤3具体为：采用丙酮溶剂剥离，除去光刻胶及其上打印并固化的电极墨水，即获得边缘整齐、光滑的图案化薄膜电极材料。