[发明专利]一种线粒体-核仁可逆迁移荧光碳点的制备及在监测细胞活性中的应用有效

专利信息
申请号: 202010042425.4 申请日: 2020-01-15
公开(公告)号: CN111072011B 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 李朝辉;孙远强;郭硕 申请(专利权)人: 郑州大学
主分类号: C01B32/15 分类号: C01B32/15;C09K11/65;G01N21/64
代理公司: 郑州优盾知识产权代理有限公司 41125 代理人: 王红培
地址: 450001 河南*** 国省代码: 河南;41
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 线粒体 核仁 可逆 迁移 荧光 制备 监测 细胞 活性 中的 应用
【权利要求书】:

1.一种线粒体-核仁可逆迁移荧光碳点在监测细胞活性中的应用,其特征在于:荧光碳点在细胞状态良好时聚集在线粒体内,在细胞凋亡的过程中部分迁移至核仁,细胞状态恢复时又返回至线粒体内;

所述线粒体-核仁可逆迁移荧光碳点的制备方法,步骤如下:将无水柠檬酸加入到水中充分溶解,之后加入N,N-二甲基苯胺,混合液移入微波管中,在160 ℃下反应1-4h,反应液经柱层析分离,得到荧光碳点。

2.根据权利要求1所述的线粒体-核仁可逆迁移荧光碳点在监测细胞活性中的应用,其特征在于具体步骤如下:

(1)在37 ℃,95 %空气,5 %二氧化碳培养箱中,将细胞接种到培养基中培养24h后加入40 µg/mL的碳点,孵育40min后用PBS洗涤两次后成像;

(2)然后加入过氧化氢,诱导细胞凋亡,拍下细胞在碳点在细胞内的荧光成像图;

(3)将细胞用PBS清洗三次并加入抗坏血酸,促使细胞状态恢复,拍下碳点在细胞内的荧光成像图。

3.根据权利要求2所述的线粒体-核仁可逆迁移荧光碳点在监测细胞活性中的应用,其特征在于:所述步骤(1)培养基为含有10 %胎牛血清、1 %的青霉素和链霉素的DMEM培养基,碳点在细胞状态良好时靶向线粒体;步骤(2)中过氧化氢浓度为4 mM,过氧化氢刺激后,细胞开始凋亡,碳点在细胞中的位置由线粒体部分迁移至核仁内;步骤(3)中抗坏血酸浓度为100 µM,加入抗坏血酸后,细胞状态恢复,碳点的位置由核仁返回至线粒体。

4.根据权利要求1所述的线粒体-核仁可逆迁移荧光碳点在监测细胞活性中的应用,其特征在于:所述荧光碳点在细胞内的空间分布位置随线粒体膜电位可逆变化中的应用。

5.根据权利要求4所述的应用,其特征在于步骤如下:

(1)在37 ℃,95 %空气,5 %二氧化碳培养箱中,将细胞接种到含有10 %胎牛血清、1 %的青霉素和链霉素的DMEM培养基中培养24h后加入40 µg/mL的碳点,孵育40min后用PBS洗涤两次后成像;

(2)加入20 µM的羰基氰-3-氯苯腙,拍下碳点在细胞内的成像图;

(3)移除含有羰基氰-3-氯苯腙的培养基后,用PBS清洗细胞三次,之后加入新鲜的培养基并拍下碳点在细胞内的荧光分布图。

6.根据权利要求5所述的应用,其特征在于:步骤(1)中碳点在细胞中靶向线粒体,步骤(2)羰基氰-3-氯苯腙刺激后,线粒体膜电位降低,碳点在细胞中的位置由线粒体部分迁移至核仁内;步骤(3)中清洗后,线粒体膜电位恢复,碳点的位置由核仁返回至线粒体。

7.根据权利要求1所述的应用,其特征在于:所述荧光碳点在活细胞和固定细胞中靶向位置成像的应用。

8.根据权利要求7所述的应用,其特征在于步骤如下:

(1)在37 ℃,95 %空气,5 %二氧化碳培养箱中,将细胞接种到含有10 %胎牛血清、1 %的青霉素和链霉素的DMEM培养基中培养24h后加入40 µg/mL的碳点,孵育40min后用PBS洗涤两次后成像;之后加入50 nM的商业化线粒体染料MitoTrackerTM Deep Red,商业化线粒体染料孵育25min,之后再用PBS清洗两次,加入1毫升无色DMEM培养基后共聚焦成像;

(2)用4 %的多聚甲醛孵育细胞10min,PBS清洗两次后加入40 µg/mL的碳点,孵育40min后用PBS洗涤两次,之后加入商业化染料Propidium Iodode,Propidium Iodode可染色凋亡或坏死细胞中的细胞核,孵育15min后共聚焦成像。

9.根据权利要求8所述的应用,其特征在于:所述步骤(1)在活细胞中碳点在线粒体内聚集,步骤(2)在固定细胞中碳点在核仁内聚集。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于郑州大学,未经郑州大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010042425.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top