[发明专利]一种用于玉米品种耐阴性研究用室内培养装置

说明书

本发明属于农产品培养技术领域，具体涉及一种用于玉米品种耐阴性研究用室内培养装置，包括：培养箱，所述培养箱的底部设有至少四个支撑腿，所述培养箱的内部设有容纳腔，且所述培养箱的内壁设有至少两个竖向分布的齿槽，所述培养箱的四角固定有向上延伸的滑杆；底层限位板；本发明采用培养箱中的培养液对玉米幼苗以及成苗进行培养，培养基纯净，不容易受到外界自然条件的干扰，成活率高，且培养箱上设有可以上下调整高度的底层限位板，通过限位套Ⅰ可以对幼苗进行限位，并且在伴随幼苗长大的过程中，可以通过活动限位板的高度以及使用不同的限位套不断的提高对苗的支撑，而通过顶板可以悬挂遮光布达到遮光效果，完成实验。

技术领域

本发明属于农产品培养技术领域，具体涉及一种用于玉米品种耐阴性研究用室内培养装置。

背景技术

大田试验研究玉米品种在遮光处理下的形态、生理与产量性状的变化，结果表明与自然光照相比遮光处理后玉米的株高降低、茎粗减小、雌雄间隔期延长、净光合速率减小、比叶重减小、地上部干物质量减少、果穗缩短变细、穗轴直径减小、行粒数减少、籽粒产量显著降低、其中雌雄间隔期、净光合速率、比叶重和行粒数变化的百分率与地上部干物质量和籽粒产量减少的百分率之间呈显著或极显著相关，可作为田间鉴定玉米耐阴性的有效指标，采用综合耐阴性状作为评价参数经聚类分析表明郑单、浚单、登海等品种属耐阴型品种，安玉、豫玉等个品种属非耐阴型品种，表明以形态、生理指标结合产量性状来评价玉米耐阴性较为客观且简单易行。

现有的技术一般在大田中进行遮光试验，但是由于种植周期长，自然条件变化大，得到的数据不够真实和准确，使得试验次数多，周期长，而现有的室内培养装置一般为幼苗培养装置，无法适应耐阴性试验的需求。

发明内容

本发明提供了一种用于玉米品种耐阴性研究用室内培养装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种用于玉米品种耐阴性研究用室内培养装置，包括：培养箱，所述培养箱的底部设有至少四个支撑腿，所述培养箱的内部设有容纳腔，且所述培养箱的内壁设有至少两个竖向分布的齿槽，所述培养箱的四角固定有向上延伸的滑杆；底层限位板，所述底层限位板位于所述培养箱的内壁，且所述底层限位板的外壁设有与所述齿槽对应分布的固定片，所述固定片的外侧设有与所述齿槽卡合的弧形弹片；活动限位板，所述活动限位板位于所述底层限位板的上方，且相对于所述滑杆滑动连接，所述底层限位板、活动限位板上均开设有对应分布的开放槽；顶板，所述顶板固定在所述滑杆的顶端，且所述顶板的外壁一周设有若干个可以滑动的吊环；安装在所述开放槽中的限位套Ⅰ、限位套Ⅱ和限位套Ⅲ，所述限位套Ⅰ、限位套Ⅱ和限位套Ⅲ均由可分离/对合的两个完全相同的部分组成，所述限位套Ⅰ和限位套Ⅱ均包括退套锥面和完全覆盖住所述开放槽的限位部以及由下至上贯通所述退套锥面、限位部的限位槽，所述限位套Ⅲ包括退套锥面、限位部和支撑部，以及由下至上贯通所述退套锥面、限位部和支撑部的限位槽。

优选的，所述限位套Ⅰ的高度为3-10cm，所述限位部的厚度为1cm，所述限位槽为圆台形，所述限位槽的小径端位于所述退套锥面的下端，所述限位槽的大径端位于所述限位部的上端。

优选的，所述限位套Ⅱ的高度为10-20cm，所述限位部的厚度为1cm，所述限位槽为圆柱形，所述限位槽的直径为2-6cm。

优选的，所述限位套Ⅲ的高度为10-20cm，所述限位部的厚度为1cm，所述退套锥面的高度为5cm，所述限位槽为圆柱形，所述限位槽的直径为3-10cm。

优选的，所述培养箱的高度为20cm，所述滑杆的高度为200cm，所述顶板的高度为15cm。

优选的，所述齿槽的数量为四个，且两两分布在所述培养箱长度侧的内壁，所述底层限位板的上端面设有把手。

优选的，所述齿槽的数量为两个，且分别分布在所述培养箱宽度侧的内壁，所述底层限位板的上端面设有把手。