[发明专利]一种新型紫外-部分可见光波段的滤光器件在审
申请号: | 202010045450.8 | 申请日: | 2020-01-16 |
公开(公告)号: | CN111175875A | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 闫培光;张梦羽;陈浩;郭凯;尹金德 | 申请(专利权)人: | 深圳大学 |
主分类号: | G02B5/22 | 分类号: | G02B5/22;G02B1/14 |
代理公司: | 重庆市信立达专利代理事务所(普通合伙) 50230 | 代理人: | 陈炳萍 |
地址: | 518060 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 紫外 部分 可见光 波段 滤光 器件 | ||
1.一种新型紫外-部分可见光波段的滤光器件,其特征在于,包括:目标衬底、二维材料薄膜层和材料保护层,所述二维材料薄膜层覆盖在所述目标衬底上,所述材料保护层覆盖在所述二维材料薄膜层上。
2.根据权利要求1所述的新型紫外-部分可见光波段的滤光器件,其特征在于:所述目标衬底为刚性衬底或柔性衬底,所述柔性衬底包括高分子聚合物材料,所述刚性衬底包括光学基底。
3.根据权利要求1所述的新型紫外-部分可见光波段的滤光器件,其特征在于:所述二维材料薄膜层包括多层纳米片薄膜,所述纳米片薄膜的厚度为3nm-50nm。
4.根据权利要求1所述的新型紫外-部分可见光波段的滤光器件,其特征在于:所述的保护层材料是三氧化二铝、二氧化硅中的任意一种。
5.根据权利要求1所述的新型紫外-部分可见光波段的滤光器件,其特征在于:所述二维材料薄膜层的制备包括以下步骤:
S11:获取硒化锗块体并研磨成粉末后通过超声辅助的液相剥离方法得到纳米片原液;
S12:将所述纳米片原液通过高速离心后得到尺寸厚度均匀的纳米片;
S13:通过真空抽滤装置把所述纳米片制备成均匀的材料薄膜;
S14:将所述材料薄膜转移到带有抽滤膜的所述目标衬底上,并将所述抽滤膜充分溶解掉,得到纳米片薄膜。
6.根据权利要求1所述的新型紫外-部分可见光波段的滤光器件,其特征在于:所述二维材料薄膜层的制备包括以下步骤:
S21:获取硒化锗块体并研磨成粉末后通过超声辅助的液相剥离方法得到纳米片原液;
S22:将所述纳米片原液通过高速离心后得到尺寸厚度均匀的纳米片;
S23:将所述目标衬底固定在旋涂机上,1500-10000rpm转速下将所述纳米片原液重复旋涂在所述目标衬底上,沉积形成一层均匀的纳米片薄膜。
7.根据权利要求1所述的新型紫外-部分可见光波段的滤光器件,其特征在于:所述二维材料薄膜层的制备包括以下步骤:
S31:获取硒化锗块体并研磨成粉末后通过超声辅助的液相剥离方法得到纳米片原液;
S32:将所述纳米片原液通过高速离心后得到尺寸厚度均匀的纳米片;
S33:将所述纳米片原液与PVA(聚乙烯醇)溶解液混合均匀,将得到的混合液滴涂到所述目标衬底上并使其固化成膜,得到纳米片薄膜。
8.根据权利要求1所述的新型紫外-部分可见光波段的滤光器件,其特征在于:所述二维材料薄膜层的制备包括以下步骤:
S41:获取硒化锗块体并研磨成粉末后通过超声辅助的液相剥离方法得到纳米片原液;
S42:将所述纳米片原液通过高速离心后得到尺寸厚度均匀的纳米片;
S43:采用压电式喷墨打印方法将所述纳米片原液沉积在所述目标衬底上,得到纳米片薄膜。
9.根据权利要求1所述的新型紫外-部分可见光波段的滤光器件,其特征在于:所述材料保护层的制备方法为,使用磁控溅射沉积技术在所述二维材料薄膜层表面均匀地沉积一层三氧化二铝薄膜保护层,所述材料保护层的厚度在50nm-500nm。
10.根据权利要求1所述的新型紫外-部分可见光波段的滤光器件,其特征在于:所述液相剥离的溶剂为去离子水或者异丙醇;所述抽滤膜的孔径大小为100nm。
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