[发明专利]新颖鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法

权利要求书

1.一种鎓盐，是以下式(1A)表示的；

式中，R是具有内酯结构的单环或多环；Rf¹、Rf²各自独立地为氟原子或碳数1～6的含氟烷基；Rf³、Rf⁴各自独立地为氢原子、氟原子或碳数1～6的含氟烷基；k为1～3的整数；L^a1为单键、醚键、酯键、磺酸酯键、碳酸酯键或氨基甲酸酯键；X^L为X^L-1～X^L-17中任一者所示；R¹为亦可含有杂原子的碳数1～20的1价烃基；m为0～10的整数；m≥2时，2个以上的R¹彼此可相同也可不同，2个以上的R¹亦可彼此键结并形成环结构；R^AL为酸不稳定基团；Q⁺为鎓阳离子，

式中，＊表示和L^a1及C(＝O)的键结。

2.根据权利要求1所述的鎓盐，是下式(1B)表示者；

式中，R、Rf¹～Rf³、L^a1、X^L、R¹、R^AL、m及Q⁺与前述相同。

3.根据权利要求2所述的鎓盐，是下式(1C)表示者；

式中，R、Rf¹～Rf³、L^a1、X^L、R¹、m及Q⁺与前述相同；R'为碳数3～20的脂环族烃基，环上的碳原子亦可取代为含杂原子的基团；R²为亦可含有杂原子的碳数1～20的1价烃基；n为0～20的整数；n≥2时，2个以上的R²彼此可相同也可不同，2个以上的R²亦可彼此键结并形成环结构；R³为亦可含有杂原子的碳数1～20的1价烃基。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的鎓盐，其中，Q⁺为下式(2A)表示的锍阳离子或下式(2B)表示的錪阳离子；

式中，R¹¹、R¹²及R¹³各自独立地为亦可含有杂原子的碳数1～20的1价烃基；又，R¹¹、R¹²及R¹³中的任2者亦可彼此键结并和它们所键结的硫原子一起形成环；R¹⁴及R¹⁵各自独立地为亦可含有杂原子的碳数1～20的1价烃基。

5.一种光酸产生剂，是由根据权利要求1至4中任一项所述的鎓盐构成的。

6.一种化学增幅抗蚀剂组成物，含有根据权利要求5所述的光酸产生剂。

7.根据权利要求6所述的化学增幅抗蚀剂组成物，更含有具有下式(a1)或(a2)表示的重复单元的基础树脂；

式中，R^A各自独立地为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基；Z^A为单键、亚苯基、亚萘基或(主链)-C(＝O)-O-Z^A1-，Z^A1为亦可含有羟基、醚键、酯键或内酯环的碳数1～10的烷二基、或亚苯基或亚萘基；Z^B为单键或(主链)-C(＝O)-O-；X^A及X^B各自独立地为酸不稳定基团；R²¹为亦可含有杂原子的碳数1～20的1价烃基；a为0～4的整数。