[发明专利]封装膜层、显示屏及电子设备

权利要求书

1.一种封装膜层，其特征在于，包括：

第一保护层，所述第一保护层具有第一折射率；

缓冲层，所述缓冲层具有第二折射率，其中，所述第一折射率与所述第二折射率的差值大于预设折射率，所述缓冲层用于在所述封装膜层弯折时减小所述封装膜层承受的应力；及

第一过渡层，所述第一过渡层设置在所述第一保护层与所述缓冲层之间，所述第一过渡层的折射率处于所述第一折射率与所述第二折射率之间。

2.根据权利要求1所述的封装膜层，其特征在于，所述第一保护层采用氮化硅形成，所述缓冲层采用高分子材料形成。

3.根据权利要求2所述的封装膜层，其特征在于，所述第一过渡层采用氧化硅或氮氧化硅形成。

4.根据权利要求1所述的封装膜层，其特征在于，所述第一过渡层包括第一层和第二层，所述缓冲层、所述第二层、所述第一层及所述第一保护层依次层叠设置。

5.根据权利要求4所述的封装膜层，其特征在于，所述第一层的折射率处于所述第一折射率与所述第二层的折射率之间，所述第二层的折射率处于所述第一层的折射率与所述第二折射率之间。

6.根据权利要求5所述的封装膜层，其特征在于，所述第一保护层采用氮化硅形成，所述第一层采用氮氧化硅形成，所述第二层采用氧化硅形成，所述缓冲层采用高分子材料形成。

7.根据权利要求1至6中任意一项所述的封装膜层，其特征在于，所述封装膜层还包括：

第二保护层，所述缓冲层设置在所述第一保护层和所述第二保护层之间。

8.根据权利要求7所述的封装膜层，其特征在于，所述第二保护层具有第三折射率，所述第三折射率与所述第二折射率的差值大于所述预设折射率，所述封装膜层还包括：

第二过渡层，所述第二过渡层设置在所述缓冲层与所述第二保护层之间，所述第二过渡层的折射率处于所述第三折射率与所述第二折射率之间，所述第二过渡层采用氧化硅或氮氧化硅形成。

9.根据权利要求8所述的封装膜层，其特征在于，所述封装膜层还包括：

第三过渡层，所述第三过渡层设置在所述第一保护层的远离所述缓冲层的一侧，所述第三过渡层的折射率处于所述第一折射率与空气的折射率之间，所述第二过渡层采用氧化硅或氮氧化硅形成。

10.根据权利要求9所述的封装膜层，其特征在于，所述第一过渡层的厚度小于第一预设厚度；和/或

所述第二过渡层的厚度小于第二预设厚度；和/或

所述第三过渡层的厚度小于第三预设厚度。

11.一种显示屏，其特征在于，包括：

显示层，所述显示层用于显示图像；及

权利要求1至10任意一项所述的封装膜层，所述显示层设于所述缓冲层的远离所述第一保护层的一侧。

12.根据权利要求11所述的显示屏，其特征在于，所述显示层包括依次层叠设置的基板、阳极、发光层及阴极，其中，所述阴极和所述阳极用于对所述发光层通电以使所述发光层发光并显示图像；所述基板用于控制所述发光层发光以显示图像。

13.根据权利要求12所述的显示屏，其特征在于，所述显示屏还包括：

光取出层，所述光取出层设置在所述第二保护层与所述阴极之间，所述光取出层用于将所述发光层的光传导至所述封装膜层。

14.根据权利要求12所述的显示屏，其特征在于，所述基板具有第四折射率，所述显示屏还包括：

增透膜，所述增透膜设置在所述基板远离所述阳极的一侧，所述增透膜的折射率处于所述第四折射率与空气的折射率之间。

15.一种电子设备，其特征在于，包括：

摄像头；及

权利要求11至14任意一项所述的显示屏，所述显示屏包括用于显示图像的显示区，所述显示区形成有相背的正面及背面，所述显示屏发出的光线沿所述背面指向所述正面的方向、并经过所述缓冲层、所述第一过渡层和所述第一保护层后向外界发射，所述摄像头设置在所述显示层的所述背面所在一侧。