[发明专利]去除吸附剂孔隙内钙镁离子的装置以及方法

权利要求书

1.一种去除吸附剂孔隙内钙镁离子的装置，包括处理罐（1）、加料口（2）、出料口（3）、进液管（4）、抽真空管（5）、进液控制阀（6）、抽真空控制阀（7）与真空泵（8）；其特征是：在处理罐（1）上设有加料口（2）、出料口（3）、进液管（4）与抽真空管（5），在进液管（4）上设有进液控制阀（6），在抽真空管（5）上设有抽真空控制阀（7）与真空泵（8）；

所述加料口（2）设置在处理罐（1）的顶面板上，出料口（3）设置在处理罐（1）的侧壁中部下方的位置。

2.根据权利要求1所述的去除吸附剂孔隙内钙镁离子的装置，其特征是：所述处理罐（1）还具有烘干功能。

3.一种去除吸附剂孔隙内钙镁离子的方法包括以下步骤：

a、将待处理的吸附剂在150~160℃温度下烘干2.5~5小时；

b、将烘干后的吸附剂浸泡在处理药剂中，浸泡时间控制在4~72小时；

c、浸泡完成后，取出吸附剂并用水洗涤至中性。

4.根据权利要求3所述的去除吸附剂孔隙内钙镁离子的方法，其特征是：步骤a中，待处理的吸附剂在处理罐（1）内进行烘干；或者，步骤a中，待处理的吸附剂在处理罐（1）外部的烘箱内进行烘干。

5.根据权利要求3所述的去除吸附剂孔隙内钙镁离子的方法，其特征是：步骤b中，烘干的吸附剂浸泡在盛装于处理罐（1）内的处理药剂中，常压条件下浸泡4~72小时；或者，步骤b中，烘干的吸附剂在绝对气压为2~5kpa的处理罐（1）内真空预处理5~120min，真空预处理后，吸附剂在盛装于处理罐（1）内的处理药剂中浸泡4~72小时。

6.根据权利要求3所述的去除吸附剂孔隙内钙镁离子的方法，其特征是：步骤b中，所述的处理药剂为0.5wt%~8.5wt%的盐酸溶液，且盐酸溶液的体积为吸附剂体积的1.5~6.5倍。

7.根据权利要求3所述的去除吸附剂孔隙内钙镁离子的方法，其特征是：步骤b中，所述的处理药剂为0.7 wt%~12.7 wt%的硝酸溶液，且硝酸溶液的体积为吸附剂体积的1.5~7倍。

8.根据权利要求3所述的去除吸附剂孔隙内钙镁离子的方法，其特征是：步骤b中，所述的处理药剂为1 wt%~16wt%的醋酸溶液，且醋酸溶液的体积为吸附剂体积的1.4~7倍。