[发明专利]一种二氧化硅生产污水处理系统及处理方法在审
申请号: | 202010053578.9 | 申请日: | 2020-01-17 |
公开(公告)号: | CN111115906A | 公开(公告)日: | 2020-05-08 |
发明(设计)人: | 陈怀斌;陈梦楠 | 申请(专利权)人: | 连云港神汇硅材料科技有限公司 |
主分类号: | C02F9/04 | 分类号: | C02F9/04;C02F101/14;C02F103/34 |
代理公司: | 连云港润知专利代理事务所 32255 | 代理人: | 刘喜莲 |
地址: | 222000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 二氧化硅 生产 污水处理 系统 处理 方法 | ||
一种二氧化硅生产污水处理系统,该系统包括依次连通的快速中和渠、碳酸钙缓释池、第一沉降池、硅酸镁预缓释池、第二沉降池、若干硅酸镁处理池和第三沉降池,在快速中和渠和碳酸钙缓释池内均盛装有用于去除二氧化硅生产污水中的酸根离子的碳酸钙块,在硅酸镁预缓释池、每个硅酸镁处理池内均盛装有用于去除二氧化硅生产污水中的氟离子的硅酸镁块,碳酸钙块之间、硅酸镁块之间均留有便于二氧化硅生产污水流动的流水间隙。该系统设计合理、使用简单、方便、有效,通过碳酸钙和硅酸镁的两步处理,能够使二氧化硅生产污水达到排放标准,并且可回收再利用,有效解决了二氧化硅生产污水的处理问题。
技术领域
本发明涉及污水处理技术领域,特别是一种二氧化硅生产污水处理系统,还涉及上述二氧化硅生产污水处理方法。
背景技术
二氧化硅的化学式为SiO2,二氧化硅有晶态和无定形两种形态,自然界中存在的二氧化硅如石英、石英砂等统称硅石,纯石英为无色晶体,二氧化硅用途很广泛,主要用于制玻璃、水玻璃、陶器、搪瓷、耐火材料、气凝胶毡、硅铁、型砂、单质硅、水泥等。
目前,随着科技的发展,智能芯片应用越来越多,而芯片主要采用单晶硅制成,单晶硅又靠高纯二氧化硅制成,因而,现在越来越多的公司都在研究如何对二氧化硅进行提纯,以制得更高精度的高纯二氧化硅,现有的主要技术手段是对低纯度的石英砂进行酸洗、提纯,以制得高纯石英砂,从而得到高纯度的二氧化硅。
而在二氧化硅的提纯过程,会产生大量的污水,这些污水中会含有大量的酸根离子和氟离子,很难进行去除,现有技术中一般采用氢氧化钙对二氧化硅生产污水进行处理,但是氢氧化钙微溶于水,添加量、添加时间很难进行把控,并且氢氧化钙消耗量大,处理成本高,目前,缺少一种更为有效合理的二氧化硅污水处理方式。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是针对现有技术的不足,提供一种设计合理、方便有效、成本低、处理效果好的二氧化硅生产污水处理系统。
本发明所要解决的另一个技术问题是提供了上述二氧化硅生产污水处理系统的处理方法。
本发明所要解决的技术问题是通过以下的技术方案来实现的。本发明是一种二氧化硅生产污水处理系统,该系统包括依次连通的快速中和渠、碳酸钙缓释池、第一沉降池、硅酸镁预缓释池、第二沉降池、若干硅酸镁处理池和第三沉降池,在快速中和渠和碳酸钙缓释池内均盛装有用于去除二氧化硅生产污水中的酸根离子的碳酸钙块,在硅酸镁预缓释池、每个硅酸镁处理池内均盛装有用于去除二氧化硅生产污水中的氟离子的硅酸镁块,碳酸钙块之间、硅酸镁块之间均留有便于二氧化硅生产污水流动的流水间隙。
本发明所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现,对于以上所述的二氧化硅生产污水处理系统,所述硅酸镁处理池设置有3个,3个硅酸镁处理池依次为硅酸镁一次缓释池、硅酸镁二次缓释池和硅酸镁三次缓释池。
本发明所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现,对于以上所述的二氧化硅生产污水处理系统,该系统还包括用于对第三沉降池内的水进行回收再利用的过滤装置,过滤装置包括若干用于对第三沉降池内的水进行处理的过滤罐和用于对过滤罐进行供水的水泵,水泵设置在第三沉降池内。
本发明所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现,对于以上所述的二氧化硅生产污水处理系统,所述过滤罐设置有4个,4个过滤罐依次为一级高压过滤罐、二级活性氧化铝过滤罐、三级高压过滤罐和四级高压过滤罐。
本发明所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现,对于以上所述的二氧化硅生产污水处理系统,所述快速中和渠与碳酸钙缓释池的顶部连通,碳酸钙缓释池的底部与第一沉降池的底部连通,第一沉降池的顶部与硅酸镁预缓释池的顶部连通,硅酸镁预缓释池的底部与第二沉降池的底部连通,第二沉降池的顶部与硅酸镁处理池的顶部连通,硅酸镁处理池的底部与第三沉降池的底部连通,相邻硅酸镁处理池的底部相互连通。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于连云港神汇硅材料科技有限公司,未经连云港神汇硅材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010053578.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:显示面板和显示装置
- 下一篇:一种喹吖啶酮生产废水处理方法及系统