[发明专利]一种适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂及其清洗方法

权利要求书

1.一种适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂，其特征在于，由以下重量百分比的组分组成：脂肪酰胺与环氧乙烷的缩合物3%~8%，缓蚀剂0.01%~0.25%，消泡剂0.1%~0.3%，光亮剂3%~7%，余量为去离子水。

2.根据权利要求1所述适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂，其特征在于，所述缓蚀剂为钼酸钠和/或苯并三氮唑。

3.根据权利要求1所述适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂，其特征在于，所述消泡剂为醚和多种活性助剂精制而成的无硅消泡剂。

4.根据权利要求1所述适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂，其特征在于，所述缩合物的浓度为1~3%的水溶液。

5.根据权利要求1所述适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂，其特征在于，所述光亮剂为乙醇胺、三乙醇胺和失水山梨醇单油酸酯中的一种或任意两种的混合物。

6.一种如权利要求1~5任一项所述适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂的的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：按照原料组分配制清洗剂，然后将其密封并将所述清洗剂加热至25℃~40℃，再将待洗件置于清洗剂中浸泡20min~35min，将完成浸泡后的待洗件置于超声波中清洗，清洗结束后用常温去离子水漂洗，再将其烘干即可。

7.根据权利要求6所述适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂的清洗方法，其特征在于，所述超声清洗时间为10min~25min，超声清洗温度为35℃~60℃，超声波清洗机额定功率大于500W。

8.根据权利要求6所述适用于自动化清洗用低成本水基清洗剂的清洗方法，其特征在于，所述烘干温度为70℃~95℃，时间为0.5~1h。