[发明专利]铜离子浓度监控方法

权利要求书

1.一种铜离子浓度监控方法，其特征在于，其包括以下步骤：

提供一含有铜离子的待测溶液；

提供一监控装置；

于一特定电位区间内，借由该监控装置测定该待测溶液的一循环伏安曲线，该循环伏安曲线具有一峰电流值；

提供复数组浓度已知的铜离子标准溶液，于该特定电位区间，借由该监控装置测定该复数组标准溶液的循环伏安曲线，每一浓度的标准溶液的循环伏安曲线具有一峰电流值，以该复数组标准溶液的铜离子浓度值及其相对应的循环伏安曲线的峰电流值确定一线性方程式，该线性方程式为Y＝AX+B，其中Y表示该峰电流值，A表示该线性方程式的斜率，X表示铜离子浓度，B表示该线性方程式的截距；以及

以该线性方程式及该待测溶液的循环伏安曲线的峰电流值，确定该待测溶液的铜离子浓度。

2.如权利要求1所述的铜离子浓度监控方法，其特征在于，该监控装置具有一容置槽，该容置槽配置有一流入口及一流出口，并有一工作电极、一辅助电极、一参考电极、一安培计及一伏特计配置于该容置槽内，该伏特计连接于该工作电极与该参考电极之间，且另有相连接的供电单元以及控制单元，该供电单元与该工作电极以及该辅助电极电性连接，该安培计则连接于该辅助电极与该供电单元之间。

3.如权利要求2所述的铜离子浓度监控方法，其特征在于，该工作电极以及该辅助电极为铂圆环电极。

4.如权利要求2所述的铜离子浓度监控方法，其特征在于，该参考电极为饱和甘汞电极。

5.如权利要求2所述的铜离子浓度监控方法，其特征在于，该容置槽内设有至少一隔板。

6.如权利要求1至4任一所述的铜离子浓度监控方法，其特征在于，该特定电位区间为0.1伏特～0.9伏特。

7.如权利要求1至4任一所述的铜离子浓度监控方法，其特征在于，该监控装置配置于一蚀刻槽，以连续方式对该蚀刻槽内的待测溶液进行监控。

8.如权利要求1至4任一所述的铜离子浓度监控方法，其特征在于，该线性方程式中A值为54.019，B值为-0.4159。