[发明专利]一种辐射剂量场的模拟方法及装置在审

专利信息
申请号: 202010055748.7 申请日: 2020-01-17
公开(公告)号: CN111239791A 公开(公告)日: 2020-06-05
发明(设计)人: 南新中 申请(专利权)人: 卡迪诺科技(北京)有限公司
主分类号: G01T1/02 分类号: G01T1/02;G01R29/08;G09B9/00
代理公司: 北京丰浩知识产权代理事务所(普通合伙) 11781 代理人: 李学康
地址: 101500 北京*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 辐射 剂量 模拟 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种辐射剂量场的模拟方法,其特征在于,它包括如下步骤:

(1)获取模拟辐射训练场的三维结构;

(2)根据所述模拟辐射训练场的三维结构,对所述模拟辐射训练场进行仿真,得到模拟辐射剂量分布图;

(3)获取所述模拟测量设备的具体位置;

(4)根据所述模拟辐射剂量分布图,确定所述具体位置的辐射剂量率并进行显示。

2.如权利要求1所述的一种辐射剂量场的模拟方法,其特征在于,所述步骤(2)包括如下:

设置模拟辐射训练场的基本信息,所述基本信息包括所述模拟辐射训练场中模拟辐射源的数量、位置和种类;

根据所述模拟辐射训练场的基本信息和三维结构,计算模拟辐射训练场中任意位置的辐射剂量率;

记录所述模拟辐射训练场中任意一点位置信息和辐射剂量率的对应关系并以模拟辐射剂量分布图的形式保存。

3.如权利要求2所述的一种辐射剂量场的模拟方法,其特征在于,所述计算模拟辐射训练场中任意位置的辐射剂量率包括:

在所述模拟辐射训练场中任选一个位置作为仿真位置,计算某时刻所述仿真位置到任意一个模拟辐射源的距离;

根据所述仿真位置到模拟辐射源的距离和该模拟辐射源的类型,计算该时刻所述模拟辐射源在仿真位置产生的辐射剂量率;

当辐射源数量大于1时,根据所述仿真位置到其他模拟辐射源的距离及其他模拟辐射源的类型,计算其他模拟辐射源在仿真位置产生的辐射剂量率;

将不同模拟辐射源在仿真位置产生的辐射剂量率进行叠加,得到仿真位置对应的辐射剂量率。

4.如权利要求2所述的一种辐射剂量场的模拟方法,其特征在于,所述计算模拟辐射训练场中各个位置的模拟辐射剂量率还包括:

当模拟辐射训练场中有屏蔽物时,预设屏蔽材料的累积因子和线性减弱系数;

计算受屏蔽物影响的任意一点到辐射源的距离,并根据计算得到的距离和累积因子、线性减弱系数计算该点的辐射剂量率。

5.如权利要求2所述的一种辐射剂量场的模拟方法,其特征在于,所述记录所述模拟辐射训练场中任意一点位置信息和辐射剂量率的对应关系包括:

生成所述模拟辐射训练场的模拟强度图;

以所述模拟强度图为基础,按照图中各个位置的辐射剂量率对所述平面图或三维图进行颜色标注;

将标注后的模拟强度图以辐射强度热力图的形式记录。

6.如权利要求1所述的一种辐射剂量场的模拟方法,其特征在于,所述步骤(4)包括:

在所述模拟测量设备中存储当前模拟辐射训练场对应的辐射强度热力图;

所述模拟测量装置接收测距装置发送的具体位置;

通过模拟测量设备显示所述具体位置对应的辐射剂量率。

7.如权利要求1所述的一种辐射剂量场的模拟方法,其特征在于,所述模拟辐射训练场包括:

一块符合辐射监测训练任务的区域及可以布置在该区域中的各种结构或其他用于对操作人员进行训练的结构。

8.一种辐射剂量场的模拟装置,其特征在于:它包括第一获取模块(410),仿真模块(420),第二获取模块(430)和确定显示模块(440),所述的第一获取模块(410)与仿真模块(420)连接,仿真模块(420)与确定显示模块(440)连接,确定显示模块(440)与第二获取模块(430)连接;

所述的第一获取模块(410)用于获取模拟辐射训练场的三维结构;场内有至少一个携带模拟测量设备,所述模拟测量设备具有测距模块;

所述的仿真模块(420),用于根据所述模拟辐射训练场的三维结构,对所述模拟辐射训练场进行仿真,得到模拟辐射剂量分布图;

所述的第二获取模块(430),用于获取所述模拟测量设备的具体位置;

所述的确定显示模块(440),用于根据所述模拟辐射剂量分布图,确定所述具体位置的辐射剂量率并进行显示。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡迪诺科技(北京)有限公司,未经卡迪诺科技(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010055748.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top