[发明专利]一种自适应高度的视觉定位激光标刻方法有效
申请号: | 202010055759.5 | 申请日: | 2020-01-17 |
公开(公告)号: | CN111275761B | 公开(公告)日: | 2023-10-03 |
发明(设计)人: | 柳邦;周杰;王晓通 | 申请(专利权)人: | 湖北三江航天红峰控制有限公司 |
主分类号: | G06T7/70 | 分类号: | G06T7/70 |
代理公司: | 北京汇信合知识产权代理有限公司 11335 | 代理人: | 王维新 |
地址: | 432000*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 自适应 高度 视觉 定位 激光 方法 | ||
本发明公开了一种自适应高度的视觉定位激光标刻方法,包括:对视觉标刻系统的影像系统进行校正,使影像系统与标刻系统重合;在激光相纸上打印相互垂直的直线阵列;调节光源亮度,采集激光相纸图片;对图片进行预处理,检测角点的亚像素坐标;基于二次函数模型进行系统标定,得到图像坐标系与实际标刻坐标系之间的关系;根据图像坐标获取实际标刻位置坐标数据;根据标刻物件的高度对实际标刻位置进行补偿。本发明的标刻方法可自适应标刻物件高度,可完美兼容目前市面上的视觉标刻机;有效抑制光学镜片以及拍摄角度不垂直引入的线性和非线性误差,提高标刻精度;可以对每个标刻对象均进行位置补偿,更进一步提高了激光标刻的精度和适用范围。
技术领域
本发明涉及激光精密加工技术领域,具体涉及一种自适应高度的视觉定位激光标刻方法。
背景技术
随着生产技术的进步,激光标刻面临着新的要求和挑战,需要进行标刻的面积越来越小,而精度要求越来越高。其中具有代表性的是微电子技术中的集成电路技术,其集成度越来越高,电子元件尺寸越来越小,对电子元件的标刻精度要求也日益增高。市面上普通激光标刻机需要通过高精度的工装对标刻物件进行固定来保证标刻精度,且不同物件需要定制不同的工装,不仅极大地增加了生产成本,同时降低了生产效率。
普通激光标刻机面对市场已经逐步落后,不能适用于高精度要求的高端产品的标刻要求,基于视觉定位的自动化激光标刻机已经成为当今时代的必然趋势。现有基于机器视觉的激光标刻系统,其识别平面与标刻平面重合,但实际应用中标刻物件高度各不相同,标刻平面也不尽相同。在识别平面相同的情况下,标刻物件存在一定的高度,激光在传播过程中标刻平面阻挡激光传播到识别平面,减少激光传播光程,降低识别标刻精度。
发明内容
针对现有技术中存在的上述问题,本发明提供一种自适应高度的视觉定位激光标刻方法,可以针对不同高度标刻物件进行定位精度自动补偿,极大地提高了识别标刻的精度和适用范围。
本发明公开了一种自适应高度的视觉定位激光标刻方法,包括:
对视觉标刻系统的影像系统进行校正,使影像系统与标刻系统重合;
在激光相纸上打印相互垂直的直线阵列;
调节光源亮度,采集激光相纸图片;
对图片进行预处理,检测角点的亚像素坐标;
基于二次函数模型进行系统标定,得到图像坐标系与实际标刻坐标系之间的关系;
根据图像坐标获取实际标刻位置坐标数据;
根据标刻物件的高度对实际标刻位置进行补偿。
作为本发明的进一步改进,所述在激光相纸上打印相互垂直的直线阵列,包括:
在视觉标刻软件中输入间隔一定、相互垂直的直线阵列;
调整所述直线矩阵的直线间隔,使直线交点覆盖整个标刻范围,并打印在所述激光相纸上。
作为本发明的进一步改进,对图片的预处理包括:图像增强和亮度调节。
作为本发明的进一步改进,检测角点的亚像素坐标的方法为:
利用亚像素角点检测方法得到所有角点的亚像素坐标。
作为本发明的进一步改进,基于二次函数模型的最小二乘法进行系统标定。
作为本发明的进一步改进,图像坐标系(x,y)与实际标刻坐标系(x’,y’)之间的关系表示为:
x'=a*x2+b*y2+c*x*y+d*x+e*y+f
y'=g*x2+h*y2+i*x*y+j*x+k*y+l
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