[发明专利]一种获取套刻误差量测数据的方法及装置有效

专利信息
申请号: 202010057340.3 申请日: 2020-01-19
公开(公告)号: CN111123662B 公开(公告)日: 2022-04-26
发明(设计)人: 马恩泽;韦亚一;张利斌;董立松 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 房德权
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 获取 误差 数据 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种获取套刻误差量测数据的方法,其特征在于,所述方法包括:

获取套刻误差的标记方式,根据所述标记方式确定套刻标记;所述标记方式包括:套叠线条BIB套刻标记方式以及先进成像计量AIM套刻标记方式;

基于所述套刻标记,确定线条上的量测区域,所述量测区域包括多组待量测区间,所述待量测区间的数量根据所述标记方式确定;

针对每个所述量测区域,对所述多组待量测区间进行量测,获取对应的量测数据;所述量测数据包括:反射数据或衍射数据;

基于预设的筛选标准,对所述量测数据进行筛选,获取符合筛选标准的量测数据;

根据所述符合筛选标准的量测数据确定套刻误差的目标量测数据;其中,当所述标记方式为所述BIB套刻标记方式时,所述线条包括套叠线条;当所述标记方式为所述AIM套刻标记方式时,所述线条包括光栅线条;

其中,当所述标记方式为BIB套刻标记方式时,线条包括内侧线条和外侧线条,量测区域处于内侧线条和外侧线条之间。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述套刻标记,确定线条上的量测区域,包括:

当所述标记方式为所述BIB套刻标记方式时,基于所述套刻标记确定第一量测区域、第二量测区域、第三量测区域及第四量测区域;所述第一量测区域、所述第二量测区域、所述第三量测区域及所述第四量测区域均包括n个第一待量测区间,所述n大于或等于6;其中,

所述第一量测区域位于x轴反方向,所述第二量测区域位于x轴方向,所述第三量测区域为位于y轴方向,所述第四量测区域位于y轴反方向。

3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述套刻标记,确定线条上的量测区域,包括:

当所述标记方式为所述AIM套刻标记方式时,基于所述套刻标记确定第五量测区域、第六量测区域、第七量测区域及第八量测区域;所述第五量测区域位于第一象限,所述第六量测区域位于第二象限,所述第七量测区域位于第三象限,所述第八量测区域位于第四象限;其中,

所述第五量测区域、所述第六量测区域、所述第七量测区域及所述第八量测区域均包括f个第二待量测区间及f个第三待量测区间;

针对每个量测区域,所述第二待量测区间位于所述每个量测区域中的外侧光栅区域,所述第三待量测区间位于每个量测区域中的内侧光栅区域;所述f的值为每个量测区域中光栅线条数的60~70%。

4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,基于预设的筛选标准,对所述量测数据进行筛选,获取符合筛选标准的量测数据,包括:

当所述标记方式为所述BIB套刻标记方式时,针对每个所述量测区域,确定所述量测数据的标准差;

分别确定出每个所述量测数据与所述标准差之间的第一差值;

按照所述第一差值从大到小的筛选顺序,基于预设的第一保留数量将所述第一差值对应的量测数据筛选掉,获取符合筛选标准的量测数据。

5.如权利要求3所述的方法,其特征在于,基于预设的筛选标准,对所述量测数据进行筛选,获取符合筛选标准的量测数据,包括:

当所述标记方式为所述AIM套刻标记方式时,基于第五量测区域及第七量测区域中第二待量测区间的量测数据,确定出外侧光栅区域的中心线在x方向上的第一坐标值;所述第五量测区域及所述第七量测区域中的光栅线条为纵向光栅线条;

基于所述第五量测区域及所述第七量测区域中第三待量测区间的量测数据,确定出内侧光栅区域的中心线在x方向上的第二坐标值;

确定所述第一坐标值与所述第二坐标值之间的第二差值;

按照所述第二差值从大到小的筛选顺序,基于预设的第二保留数量将所述第二差值对应的量测数据筛选掉,获取符合筛选标准的量测数据。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010057340.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top