[发明专利]一种超导光学探测器光学谐振腔在审
| 申请号： | 202010061368.4 | 申请日： | 2020-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN111261769A | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | 王雪深;钟青;李劲劲;陈建;王仕建;钟源;徐骁龙 | 申请（专利权）人： | 中国计量科学研究院 |
| 主分类号： | H01L39/10 | 分类号： | H01L39/10;H01L39/16;G01J11/00 |
| 代理公司： | 苏州知途知识产权代理事务所(普通合伙) 32299 | 代理人： | 马刚强 |
| 地址： | 100020 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 超导 光学 探测器 谐振腔 | ||
【权利要求书】：
1.一种超导光学探测器光学谐振腔，其特征在于，从一端到另一端分别为：基底层(1)、全反射层(2)、二氧化硅层(3)、吸收层(4)和氮化硅层(5)。
2.根据权利要求1所述的超导光学探测器光学谐振腔，其特征在于，全反射层(2)为Au或者Al，厚度不小于100nm。
3.根据权利要求1或2所述的超导光学探测器光学谐振腔，其特征在于，所述吸收层(4)为铌Nb、铌硅NbSi、Ti、Ti/Al、Ti/Au层。
4.根据权利要求3所述的超导光学探测器光学谐振腔，其特征在于，所述吸收层(4)为超导15nm Nb膜，Nb膜的折射率为2.279+i3.970，二氧化硅层(3)的折射率为1.88，氮化硅层(5)的折射率是1.47。
5.根据权利要求4所述的超导光学探测器光学谐振腔，其特征在于，所述二氧化硅层(3)的厚度为124-153nm。
6.根据权利要求4所述的超导光学探测器光学谐振腔，其特征在于，所述氮化硅层(5)的厚度为108-913nm。
7.根据权利要求1-6任一项所述的超导光学探测器光学谐振腔，其特征在于，所述二氧化硅层(3)和所述氮化硅层(5)通过原子层沉积系统或者化学气相沉积系统制备。
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