[发明专利]一种微结构低振荡背部镀膜啁啾镜及其制备方法

权利要求书

1.一种微结构低振荡背部镀膜啁啾镜，其特征在于：其结构为A/M/G/C，其中A代表空气层，M代表增透微结构，G代表基底，C代表啁啾介质膜系，所述增透微结构为周期性阵列结构，所述的啁啾介质膜系结构由高低折射率材料交替沉积组成；所述的啁啾镜结构表达式为A/M/G/(HxL)^m(xHL)^n(HL)^k，其中A代表空气层，M代表增透微结构，G代表基底，H为光学厚度为λ/4的高折射率材料，L为光学厚度为λ/4的低折射率材料，n和m为腔的周期数，x为腔的厚度，k为高反射率膜层周期数；所述基底材料为石英玻璃、K9、BK7、或CaF₂，且厚度小于0.5mm，所述啁啾膜系中低折射率的介质薄膜材料为SiO₂。

2.根据权利要求1所述的微结构低振荡背部镀膜啁啾镜结构，其特征在于，所述的高反射率膜层周期数k选择范围为7～20，所述的腔的厚度x在1.2～3之间，所述的腔的周期数m，n在5～15之间。

3.根据权利要求1所述的微结构低振荡背部镀膜啁啾镜，其特征在于：所述啁啾膜系中高折射率的介质薄膜材料为TiO₂，Nb₂O₅，Ta₂O₅，HfO₂，ZrO₂，氟化物，硫化物，或Si中的任意一种。

4.根据权利要求1所述的微结构低振荡背部镀膜啁啾镜，其特征在于：所述的周期性阵列结构的各单元形状为长方体、圆柱体、圆锥体、圆台体、金字塔形或抛物椎体。

5.一种制备权利要求1-4任一所述的微结构低振荡背部镀膜啁啾镜的方法，其特征在于：该方法包括以下步骤：

步骤1)在基底上旋涂光刻胶，采用激光全息干涉技术制备所需掩膜版图样；

步骤2)采用反应离子束刻蚀技术将步骤1制备的掩膜版转移至基底上，制备所述的周期性阵列结构，该周期性阵列结构的各单元形状为长方体、圆柱体、圆锥体、圆台体、金字塔形或抛物椎体；

步骤3)在步骤2制备完周期性阵列结构的基底背面沉积啁啾膜系。