[发明专利]用于进行测量的测量系统、测量装置及方法

权利要求书

1.一种用于对被测设备(12)的总辐射功率进行测量的测量系统，包括消声室(18)、具有用于支撑所述被测设备(12)的设备部件(30)的定位器(20)、用于与所述被测设备(12)建立通信的至少一个链路天线(22)以及多个不同的测量天线(24)，其中所述测量天线(24)设置在所述消声室(18)中并且被设计为实施总辐射功率测量。

2.根据权利要求1所述的测量系统，其特征在于所述测量天线(24)中的至少两个测量天线适用于测量不同的频率范围，特别地，所述测量天线(24)中的每个测量天线适用于测量不同的频率范围。

3.根据权利要求1或2所述的测量系统，其特征在于所述测量天线(24)设置在所述消声室(18)的角落和/或与所述设备部件(30)等距。

4.根据前述权利要求中任一项所述的测量系统，其特征在于所述测量天线(24)设置在所述设备部件(30)的近场距离。

5.根据前述权利要求中任一项所述的测量系统，其特征在于所述测量系统(14)包括用于所述链路天线(22)的信号的反射器(36)，所述反射器(36)设置在所述消声室(18)中，特别地，其中至少一个链路天线(22)到所述设备部件(30)的信号的最短传播路径通过所述反射器(36)传输。

6.根据前述权利要求中任一项所述的测量系统，其特征在于所述定位器(20)被配置为在三维中，特别地是沿球体移动所述设备部件(30)，。

7.根据前述权利要求中任一项所述的测量系统，其特征在于所述定位器(20)包括枢转臂(26)，特别地，其中在所述枢转臂(26)上设置有转台(28)。

8.一种用于对被测设备(12)的总辐射功率进行测量的测量装置，包括被测设备(12)和根据前述权利要求中任一项所述的测量系统(14)，其中所述被测设备(12)被固定在所述定位器(20)的所述设备部件中。

9.一种用于对被测设备(12)的总辐射功率进行测量的方法，特别地，使用根据前述权利要求1-7中任一项所述的测量系统(14)，包括以下步骤：

a)将所述被测设备(12)置于定位器(20)上的消声室(18)中，

b)借助于所述定位器(20)在所述消声室(18)中沿测量路径(M)移动所述被测设备(12)，以及

c)当所述被测设备(12)沿所述测量路径(M)移动时，使用设置在所述消声室(18)中的多个测量天线(24)测量所述被测设备(12)的乱真发射。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于使用设置在所述消声室(18)中的链路天线(22)与所述被测设备(12)建立通信。

11.根据权利要求9或10所述的方法，其特征在于所述测量路径(M)是螺旋路径和/或覆盖整个球体。

12.根据权利要求9至11中任一项所述的方法，其特征在于所述被测设备(12)与所述测量天线(24)之间的距离沿所述测量路径(M)保持相同。

13.根据权利要求9至12中任一项所述的方法，其特征在于所述被测设备(12)被持续地或阶梯式地移动。

14.根据权利要求9至13中任一项所述的方法，其特征在于在测量期间重新编码取向，特别是所述被测设备(12)相对于至少一个、特别是每个所述测量天线(24)的方位角和/或仰角。

15.根据权利要求9至14中任一项所述的方法，其特征在于评估单元(38)接收所述测量天线(24)的测量值，并且由所述评估单元(38)特别是根据所记录的取向将测量值、特别是所记录的方位角和/或仰角传送到同一计算基地。