[发明专利]分布式面阵薄片成像系统

权利要求书

1.一种分布式面阵薄片成像系统，其特征在于，包括分布式面阵透镜阵列、微纳光子集成器件和线性探测器阵列，其中：

所述分布式面阵透镜阵列为辐射状线性排布方式，在每条线性阵列后端透镜焦平面空间耦合所述微纳光子集成器件，其中所述微纳光子集成器件将各透镜耦合光分为两束，将奇数间距透镜对耦合构成干涉基线，同时将偶数间距透镜对耦合构成干涉基线；

其中，所述每条线性阵列上相邻透镜中心距离为单位1，所述奇数间距透镜对是指任意间距为1、3、5…2n-1的两端的透镜组成的透镜对，所述偶数间距透镜对是指任意间距为2、4、6…2n-2的两端的透镜组成的透镜对。

2.根据权利要求1所述的分布式面阵薄片成像系统，其特征在于，所述微纳光子集成器件包括分束结构、波导结构、阵列波导光栅结构和MMI结构。

3.根据权利要求2所述的分布式面阵薄片成像系统，其特征在于，空间光经所述透镜耦合进入微纳光子集成器件后，经所述分束结构将光束分为1：1的两束光。

4.根据权利要求1所述的分布式面阵薄片成像系统，其特征在于，所述分布式面阵透镜阵列上透镜直径与相邻透镜中心距离相同。

5.根据权利要求1所述的分布式面阵薄片成像系统，其特征在于，所述奇数间距透镜对和所述偶数间距透镜对的数量相同。

6.根据权利要求1所述的分布式面阵薄片成像系统，其特征在于，所述奇数间距透镜对和所述偶数间距透镜对的数量均为20～50。

7.根据权利要求1所述的分布式面阵薄片成像系统，其特征在于，所述奇数间距透镜对和所述偶数间距透镜对的数量为30。

8.根据权利要求1所述的分布式面阵薄片成像系统，其特征在于，每条线性探测器阵列后端透镜焦平面空间耦合所述微纳光子集成器件芯片，将耦合光进行两两组合构成干涉基线。