[发明专利]用于决定元件在光刻掩模上的位置的设备与方法

权利要求书

1.一种用于决定至少一个元件(130,540,940)在光刻掩模(110)上的位置的设备(200)，包含：

a.至少一个扫描粒子显微镜(210)，其包含第一参考物体(240)，其中该第一参考物体(240)设置在该扫描粒子显微镜(210)上，使得该扫描粒子显微镜能够用于决定该至少一个元件(130,540,940)在该光刻掩模(110)上相对于该第一参考物体(240)的相对位置；以及

b.至少一个距离测量装置(270)，其实施为决定该第一参考物体(240)和第二参考物体(250)之间的距离，其中该第二参考物体(250)与该光刻掩模(110)之间存在一关系。

2.如权利要求1所述的设备(200)，其中该第一参考物体(240)被附接到用于至少一个粒子束(225)的该扫描粒子显微镜(210)的输出端，使得该第一参考物体(240)能够至少部分地通过该至少一个粒子束(225)来成像。

3.如前述权利要求中任一项所述的设备(200)，其中该第一参考物体(240)包含展开一坐标系统的至少三个标记(850,950)。

4.如权利要求3所述的设备(200)，其中该至少三个标记(850,950)的横向尺寸范围为1nm至5000nm，和/或其中该至少三个标记(850,950)的高度范围为1nm至1000nm。

5.如权利要求3所述的设备(200)，其中该至少三个标记(850,950)具有与该第一参考物体(240)的材料成分不同的材料成分。

6.如权利要求1或2所述的设备(200)，其中该第一参考物体(240)设置在该扫描粒子显微镜(200)的至少一个粒子束(225)的景深内。

7.如权利要求1或2所述的设备(200)，其中该第一参考物体(240)包含第一数量的单元胞(880,980)，其中每一单元胞(880,980)包含至少三个标记(850,950)，其中第二数量的粒子束(225)穿过该第一数量的单元胞(880,980)，其中以下适用于该第二数量：1≤第二数量≤第一数量，且其中该第一数量包含一区域10。

8.如权利要求1或2所述的设备(200)，其中该第一参考物体(240)包含薄膜(810)，其中展开一坐标系统的至少三个标记(850)设置于该薄膜上。

9.如权利要求1或2所述的设备(200)，其中该第一参考物体(240)具有至少一个孔径(420,430,920)，该至少一个粒子束(920)穿过该孔径，以用于感测该光刻掩模(110)。

10.如权利要求9所述的设备(200)，其中该扫描粒子显微镜(210)的扫描单元(282)实施为在一共同扫描过程中在该第一参考物体(240)的至少一个部分上以及在该光刻掩模(110)的元件(130,540,940)上扫描该至少一个粒子束(225)。

11.如权利要求1或2所述的设备(200)，其中该第一参考物体(240)是导电的，以用于补偿该光刻掩模(110)的表面电荷(120,125)。

12.如权利要求1或2所述的设备(200)，其中该扫描粒子显微镜(210)包含评估单元(286)，该评估单元实施为从该第一参考物体(240)的变化来决定由该粒子束显微镜(210)的至少一个粒子束(225)记录的像的变形，和/或其中该评估单元(286)进一步实施为基于一模型来从该第一参考物体(240)的变化决定该光刻掩模(110)的静电荷。

13.如权利要求1或2所述的设备(200)，其中该至少一个距离测量装置(270)包含至少一个干涉仪。