[发明专利]双幅度粒子布居数光栅生成方法在审
| 申请号： | 202010069019.7 | 申请日： | 2020-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN111208689A | 公开（公告）日： | 2020-05-29 |
| 发明（设计）人： | 张双根;张化迪 | 申请（专利权）人： | 天津理工大学 |
| 主分类号： | G02F1/35 | 分类号： | G02F1/35 |
| 代理公司： | 北京惠智天成知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11681 | 代理人： | 王芳 |
| 地址： | 300384 *** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 双幅 粒子 布居数 光栅 生成 方法 | ||
一种双幅度粒子布居数光栅生成方法，在该方法中，向介质晶体分别射入多束光脉冲，从而获得双幅度光栅，本发明又对光栅幅度和相移进行了分析，得到光栅幅度随光脉冲时延的增加会呈现出周期性的变化，同时相移会发生线性的移动。当光脉冲时间延迟取T0的整数倍时，生成的双幅度光栅不会受到光脉冲时延的影响，在两个相邻的T0的整数倍之间，也就是说当光脉冲时延取T0的非整数倍时，双幅度光栅会存在明显的波动，且光栅的两个振幅会在相邻的两个阶段内做交替变换。由本发明方法得到的双幅度粒子布居数光栅不仅在非线性光学研究中具有非常大的应用价值，更重要的是本发明能够生成可控的双幅度粒子布居数光栅，其适用性得到了显著提升。
技术领域
本发明涉及布居数光栅生成技术领域，更具体地说，特别涉及一种双幅度粒子布居数光栅生成方法。
背景技术
粒子布居数光栅通常是通过两个空间重叠的相干光脉冲在共振晶体介质中产生的，这些光栅在不同种类的光谱学和非线性光学等中具有广泛的应用。
然而，在现有技术中，粒子布居数光栅生成方法仅能够形成一种特定宽度狭缝的单幅图形，这就造成了传统粒子布居数光栅生成方法适用范围窄、适用性差的问题。
发明内容
(一)技术问题
综上所述，如何解决传统粒子布居数光栅生成方法适用范围窄、适用性差的问题，成为了本领域技术人员亟待解决的问题。
(二)技术方案
本发明提供了一种双幅度粒子布居数光栅生成方法，该双幅度粒子布居数光栅生成方法包括：
步骤二、向晶体介质输入第一光脉冲，用于在晶体介质中形成偏振振荡；
步骤四、向晶体介质输入与所述第一光脉冲方向相反的第二光脉冲，用于在晶体介质中与偏振振荡作用生成单幅度光栅；
步骤六、向晶体介质输入第三光脉冲，用于在晶体介质中与所述单幅度光栅作用生成双幅度光栅。
优选地，在本发明所提供的双幅度粒子布居数光栅生成方法中，在所述步骤六中，所述第三光脉冲与所述第一光脉冲的入射方向相同。
优选地，在本发明所提供的双幅度粒子布居数光栅生成方法中，在所述步骤六中，所述第三光脉冲包括有稳态光脉冲与作用光脉冲，所述稳态光脉冲与所述第二光脉冲的入射方向相同，所述作用光脉冲与所述第一光脉冲的入射方向相同。
优选地，在本发明所提供的双幅度粒子布居数光栅生成方法中，所述第一光脉冲、所述第二光脉冲以及所述第三光脉冲均为单极光脉冲。
优选地，在本发明所提供的双幅度粒子布居数光栅生成方法中，获得各个光脉冲的时间点，并根据光脉冲的电场表达式通过归一化获得参数T0；对所述第三光脉冲的入射时间进行调整，并使得所述第三光脉冲与所述第一光脉冲之间的时间差为N*T0，其中，5≤N＜29。
优选地，在本发明所提供的双幅度粒子布居数光栅生成方法中，对所述第三光脉冲的入射时间进行调整，并在一个长度为T0的期间内，通过调整所述第三光脉冲的入射时间对所述双幅度光栅的幅值进行调整。
优选地，在本发明所提供的双幅度粒子布居数光栅生成方法中，所述第一光脉冲、所述第二光脉冲以及所述第三光脉冲具有相同的形状与振幅。
优选地，在本发明所提供的双幅度粒子布居数光栅生成方法中，所述第一光脉冲与所述第二光脉冲在所述晶体介质内不重叠。
(三)有益效果
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