[发明专利]处理含硫化合物的气态进料的工艺流程

权利要求书

1.一种通过以下各项处理硫化合物含量低于5vol.％的含硫化合物的气态进料以获得贫硫化合物的气体的工艺流程：燃烧含硫化合物的气体，从而获得含二氧化硫的气体；并且随后从气体中分离出二氧化硫，从而获得贫硫化合物的气体；

其中所述燃烧通过分别向燃烧空间排放以下各项来执行：(i)经由一个或多个第一喷嘴排放温度介于150℃和550℃之间并且气体速度至少为25m/s的一种或多种含氧气体流；以及(ii)经由一个或多个第二喷嘴排放速度至少为25m/s的一种或多种含硫化合物的气态进料流，其中燃烧在介于800℃和1200℃之间的温度下进行。

2.根据权利要求1所述的工艺流程，其中在所述燃烧空间中的气体停留时间为至少0.5秒。

3.根据权利要求2所述的工艺流程，其中在所述燃烧空间中的气体停留时间为至少1秒。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的工艺流程，其中当含氧气体排放到所述燃烧空间中时其速度为40m/s至120m/s，和/或其中当含硫化合物的气态进料排放到所述燃烧空间时其速度为40m/s至125m/s。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的工艺流程，其中当含氧气体经由所述一个或多个第一喷嘴排放时其温度介于300℃和550℃之间。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的工艺流程，其中含氧气体经由3至300个第一喷嘴排放到所述燃烧空间中，并且其中含硫化合物的气态进料经由3至300个第二喷嘴排放到所述燃烧空间中。

7.根据权利要求6所述的工艺流程，其中所述燃烧空间是矩形盒。

8.根据权利要求7所述的工艺流程，其中所述第一喷嘴和第二喷嘴定位在成形为矩形盒的燃烧空间的其中一个竖直壁中。

9.根据权利要求7所述的工艺流程，其中所述第一喷嘴和第二喷嘴定位在成形为矩形盒的燃烧空间的两个相对的竖直壁中。

10.根据权利要求6所述的工艺流程，其中所述燃烧空间是管式反应器空间。

11.根据权利要求6至10中任一项所述的工艺流程，其中存在用作启动燃烧器的一个或多个第三喷嘴，并且其中这些第三燃烧器用于将所述燃烧空间预热到介于650℃和1400℃之间的温度。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的工艺流程，其中温度介于150℃和550℃之间的含氧气体通过与从所述燃烧空间排放的含二氧化硫的气体的间接热交换来升高温度低于100℃的含氧启动气体的温度来获得。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的工艺流程，其中从所述燃烧空间排放的含二氧化硫的气体包括二氧化硫、二氧化碳、水以及介于1vol.％和10vol.％之间的未反应氧，优选介于1vol.％和10vol.％的未反应氧。

14.根据权利要求1至13中任一项所述的工艺流程，其中含硫气态进料的低热值介于1MJ/Nm³和30MJ/Nm³之间。

15.根据权利要求14所述的工艺流程，其中所述低热值介于1.5MJ/Nm³和15MJ/Nm³之间。

16.根据权利要求1至15中任一项所述的工艺流程，其中低热值小于1MJ/Nm³的含硫化合物的启动气态进料与低热值大于20MJ/Nm³的含烃气态共进料混合使用，作为含硫化合物的气态进料。