[发明专利]一种LPCVD双材质真空反应室

权利要求书

1.一种LPCVD双材质真空反应室，其特征在于，包括具有中空结构的反应室(1)、设置在反应室(1)内的进气组件及设置在反应室(1)端部的出气管(2)，所述进气组件与外部气源(13)连接，所述反应室(1)包括外层腔体(11)及设置在外层腔体(11)内的内层腔体(12)，所述外层腔体(11)由金属材质制成，所述内层腔体(12)由石英材质制成；

所述进气组件包括至少一个左进气管(3)及至少一个右进气管(4)，每一个左进气管(3)的进气口设置在反应室(1)长度方向的一端部，每一个右进气管(4)的进气口设置在反应室(1)长度方向的另一端部，所述左进气管(3)与右进气管(4)均沿所述反应室(1)的长度方向延伸，所述左进气管(3)和右进气管(4)上均设置有多个间隔设置的出气孔；所述反应室(1)与炉门配合的端部外套设有由金属材质制成的密封法兰，所述密封法兰的一端面用于与炉门抵触。

2.根据权利要求1所述的LPCVD双材质真空反应室，其特征在于，所述密封法兰(5)远离反应室的圆周外侧部上设置有沿圆周方向的凹槽(51)。

3.根据权利要求2所述的LPCVD双材质真空反应室，其特征在于，所述进气组件还包括分别设置在反应室(1)长度方向两端部的气管接头(9)，每一个气管接头(9)的一端与左进气管(3)或右进气管(4)连接，另一端与外部气源(13)连接，所述密封法兰(5)的圆周外侧部设置有至少一个气管接头(9)。

4.根据权利要求1所述的LPCVD双材质真空反应室，其特征在于，所述反应室(1)内设置有用于支撑所述左进气管(3)和右进气管(4)的支撑件(10)，所述支撑件(10)的一端与内层腔体(12)的内侧壁接触，另一端与左进气管(3)或右进气管(4)接触。

5.根据权利要求1所述的LPCVD双材质真空反应室，其特征在于，所述左进气管(3)和右进气管(4)之间通过连接件进行连接。

6.根据权利要求5所述的LPCVD双材质真空反应室，其特征在于，所述连接件为相对设置的第一连接板和第二连接板及设置在所述第一连接板和第二连接板之间的第三连接板，所述第一连接板与第二连接板均用于分别与相邻的左进气管(3)和右进气管(4)抵触。

7.根据权利要求6所述的LPCVD双材质真空反应室，其特征在于，所述第三连接板为曲面状，且其宽度方向上的侧边沿为弧形状。

8.根据权利要求1所述的LPCVD双材质真空反应室，其特征在于，所述外层腔体(11)为长度方向的一端封闭、另一端开口的筒体结构，所述内层腔体(12)为其长度方向的两端部均开口的筒体结构。

9.根据权利要求8所述的LPCVD双材质真空反应室，其特征在于，所述外层腔体(11)的一端部设置有用于密封的金属板(6)，所述金属板(6)与反应室(1)焊接，使得所述外层腔体(11)的一端部为封闭结构。

10.根据权利要求9所述的LPCVD双材质真空反应室，其特征在于，所述反应室(1)设置有金属板(6)的端部设置有与外部辅助装配工具相配合的定位件(7)及用于检测反应室(1)内温度的热电偶(8)。