[发明专利]基于横磁模的硅基窄线宽高功率外腔激光器在审

专利信息
申请号: 202010073025.X 申请日: 2020-01-22
公开(公告)号: CN111244758A 公开(公告)日: 2020-06-05
发明(设计)人: 周林杰;赵瑞玲;郭宇耀;陆梁军;庞拂飞;陈建平 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: H01S5/14 分类号: H01S5/14;H01S5/065
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 张宁展
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 基于 横磁模 硅基窄线宽高 功率 激光器
【权利要求书】:

1.一种基于横磁模的硅基窄线宽高功率外腔激光器,其特征在于包括反射型半导体光放大器(101)、光斑尺寸转换器(102)、移相器(103)、第一微环滤波器(104)、第二微环滤波器(105)、萨格纳克反射镜(106)、模式转换器(107);所述反射型半导体光放大器(101)的输出端与所述的光斑尺寸转换器(102)的输入端相连,所述的光斑尺寸转换器(102)的输出端与所述的移相器(103)的一端相连,所述的移相器(103)的另一端与所述的第一微环滤波器(104)相连、第二微环滤波器(105)与第一微环滤波器(104)耦合。所述的第一微环滤波器(104)和第二微环滤波器(105)大小略有不同,形成游标滤波效应,第二微环滤波器与可调萨格纳克反射镜(106)的一个端口波导相耦合,萨格纳克反射镜的另一端口即为激光出射端,该激光出射端再与所述的模式转换器(107)相连,将模式从横磁模转换成横电模,该模式转换器(107)的输出端可以串接任意横电模处理器件。

2.如权利要求1所述的基于横磁模的硅基窄线宽高功率外腔激光器,其特征在于:所述的反射型半导体光放大器(101)的一端具有高反射率(反射率≥90%),另一端具有低反射率(反射率≤0.005%),所述的低反射率端即反射型半导体光放大器(101)的输出端;所述的反射型半导体光放大器(101)的增益波长处于通信波段,可以用III-V量子阱或量子点材料实现。

3.如权利要求1所述的基于横磁模的硅基窄线宽高功率外腔激光器,其特征在于,所述的光斑尺寸转换器(102)采用倒锥耦合器或悬空波导耦合器实现。

4.如权利要求1所述的基于横磁模的硅基窄线宽高功率外腔激光器,其特征在于,所述的移相器(103)采用热光移相器或电光移相器。

5.如权利要求1所述的基于横磁模的硅基窄线宽高功率外腔激光器,其特征在于:所述的萨格纳克反射镜(106)由马赫-曾德尔干涉器和U型波导构成,马赫-曾德尔干涉器的一臂上有移相器,输入耦合器和输出耦合器的耦合比均为50:50。

6.如权利要求1所述的基于横磁模的硅基窄线宽高功率外腔激光器,其特征在于:除反射型半导体光放大器外,其余部件都可由硅波导实现,且均支持横磁模传输,反射型半导体光放大器和硅芯片可以通过对接耦合进行对准。

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