[发明专利]一种薄膜制备组件、薄膜制备方法及其应用

权利要求书

1.一种薄膜制备组件，其特征在于，该薄膜制备组件包含半导体制冷球冠碗(1)、热沉单元(2)、电机(3)；其连接关系是，电机(3)安装在热沉单元(2)上，半导体制冷球冠碗(1)安装在电机(3)的轴端；所述的热沉单元(2)包括上半部分、下半部分及中间部分，其中，上半部分设有与半导体制冷球冠碗(1)相匹配的凹坑，下半部分设置为倾斜坡面，中间部分为导热垫片。

2.根据权利要求1所述的薄膜制备组件，其特征在于，所述的半导体制冷球冠碗(1)与热沉单元(2)的凹坑光滑接触。

3.一种基于权利要求1或2所述的薄膜制备组件的薄膜制备方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：

(a)将带有球形衬底的制备组件放入真空镀膜设备的样品台上；

(b)将真空腔抽真空；

(c)制备组件通电，并设定制备组件中球冠碗的温度及旋转速度；

(d)通入薄膜原材料，直至球形薄膜成型。

4.根据权利要求3所述的薄膜制备方法，其特征在于，步骤(c)中所述的温度为-50℃～50℃、旋转速度低于10r/s。

5.一种基于权利要求1或2所述的薄膜制备组件或基于权利要求3或4所述的薄膜制备方法制备的薄膜的应用，其特征在于，所述的薄膜用于激光聚变研究实验用的靶壳层。