[发明专利]工作间隙的决定方法、以及记录装置有效
申请号: | 202010073218.5 | 申请日: | 2020-01-22 |
公开(公告)号: | CN111497440B | 公开(公告)日: | 2023-05-16 |
发明(设计)人: | 桜田和昭;多津田哲男;鹿川祐一;浮田衛 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | B41J2/01 | 分类号: | B41J2/01;B41J29/393 |
代理公司: | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 姜克伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 工作 间隙 决定 方法 以及 记录 装置 | ||
1.一种工作间隙的决定方法,其特征在于,包括:
第一记录工序,从记录头向介质的厚度已知的第一记录介质喷出油墨从而记录测试图案;
第一拍摄工序,在所述记录头和所述第一记录介质之间的距离为第一距离以及第二距离的各个状态下,对被记录于所述第一记录介质上的所述测试图案进行拍摄;
函数计算工序,基于在所述第一距离下拍摄到的所述测试图案的像素数和在所述第二距离下拍摄到的所述测试图案的像素数,而对根据所拍摄到的所述测试图案的像素数求出所述距离的函数进行计算;
第二记录工序,在第二记录介质上记录所述测试图案;
第二拍摄工序,对被记录在所述第二记录介质上的所述测试图案进行拍摄;
工作间隙决定工序,根据被拍摄到的所述测试图案的像素数和所述函数来决定所述记录头与所述第二记录介质之间的距离,
所述记录头具有第一记录头和第二记录头,
在所述第二记录工序中,从所述第一记录头向所述第二记录介质记录所述测试图案,
在所述第二拍摄工序中,对被记录于所述第二记录介质上的所述测试图案进行拍摄,
在所述工作间隙决定工序中,根据被拍摄到的所述测试图案的像素数和所述函数来决定所述第一记录头与所述第二记录介质之间的距离,
根据所述第一记录头与所述第二记录介质之间的距离和所述第二记录头用的所述函数来决定所述第二记录头与所述第二记录介质之间的距离。
2.如权利要求1所述的工作间隙的决定方法,其特征在于,
所述测试图案为,通过所述记录头和所述第一记录介质或者所述第二记录介质沿着第一轴进行相对移动而被记录、且用于沿着所述第一轴的记录位置的调节的图案。
3.如权利要求1或权利要求2所述的工作间隙的决定方法,其特征在于,
所述第一距离为,所述记录头与所述第一记录介质之间的距离的下限,
所述第二距离为,所述记录头与所述第一记录介质之间的距离的上限。
4.如权利要求1所述的工作间隙的决定方法,其特征在于,
在所述第一拍摄工序的所述第一距离上,所述测试图案被放大或者缩小为预定的大小。
5.一种记录装置,其特征在于,具备:
记录头,其对测试图案进行记录;
间隙调节部,其对所述记录头的高度进行调节;
摄像部,其对所述测试图案进行拍摄;
控制部,
所述控制部进行如下控制从而决定工作间隙,即,
在介质的厚度已知的第一记录介质上记录所述测试图案,
在将所述记录头与所述第一记录介质之间的距离设为第一距离以及第二距离的各个状态下,对被记录于所述第一记录介质上的所述测试图案进行拍摄,
基于在所述第一距离下拍摄到的所述测试图案的像素数、和在所述第二距离下拍摄到的所述测试图案的像素数,而对根据所拍摄到的所述测试图案的像素数求出所述距离的函数进行计算,
在第二记录介质上记录所述测试图案,
对被记录在所述第二记录介质上的所述测试图案进行拍摄,
根据所拍摄到的所述测试图案的像素数和所述函数来决定所述记录头与所述第二记录介质之间的距离即工作间隙,
所述记录头具有第一记录头和第二记录头,
从所述第一记录头向所述第二记录介质记录所述测试图案,
对被记录于所述第二记录介质上的所述测试图案进行拍摄,
根据被拍摄到的所述测试图案的像素数和所述函数来决定所述第一记录头与所述第二记录介质之间的距离,
根据所述第一记录头与所述第二记录介质之间的距离和所述第二记录头用的所述函数来决定所述第二记录头与所述第二记录介质之间的距离。
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