[发明专利]成膜装置及半导体装置的制造方法

说明书

本发明提供一种在储存槽内使喷雾高效地产生的成膜装置。该成膜装置向基体的表面供给溶液的喷雾而使膜在所述基体的所述表面外延生长，该成膜装置具备：加热炉，收容并加热所述基体；储存槽，储存所述溶液；加热器，将所述储存槽内储存的所述溶液加热；超声波振动器，通过向储存在所述储存槽内的所述溶液施加超声波，从而在所述储存槽内产生所述溶液的所述喷雾；以及喷雾供给路径，将所述喷雾从所述储存槽输送到所述加热炉。

技术领域

本说明书公开的技术涉及成膜装置及成膜方法。

背景技术

专利文献1公开了一种成膜装置，其向基体的表面供给溶液的喷雾而使膜在基体的表面生长。该成膜装置具有加热炉、储存槽、超声波振动器以及喷雾供给路径。加热炉收容并加热基体。储存槽储存溶液。超声波振动器向储存在储存槽内的溶液施加超声波，从而使得在储存槽内产生溶液的喷雾。喷雾供给路径将喷雾从储存槽输送到加热炉。通过在加热炉内使喷雾附着在基体的表面，从而膜在基体的表面生长。

专利文献1：日本特开2015-070248号公报

发明内容

通过专利文献1的技术，当在储存槽内使溶液的喷雾产生时，难以使喷雾高效地产生。在本说明书中，提出一种在储存槽内使喷雾高效地产生的技术。

本说明书所公开的成膜装置向基体的表面供给溶液的喷雾而使膜在所述基体的所述表面外延生长。该成膜装置具备：加热炉，收容并加热所述基体；储存槽，储存所述溶液；加热器，将所述储存槽内储存的所述溶液加热；超声波振动器，通过向储存在所述储存槽内的所述溶液施加超声波，从而在所述储存槽内使得所述溶液的所述喷雾产生；以及喷雾供给路径，将所述喷雾从所述储存槽输送到所述加热炉。

另外，所述加热器只要能够将储存在储存槽内的溶液加热即可，可以为任何加热器。例如所述加热器可以为电热丝加热器，也可以为通过与已被加热的液体进行热交换来加热溶液的器件。

该成膜装置能够一边通过加热器加热储存槽内的溶液，一边通过超声波振动器向储存槽内的溶液施加超声波。如果一边加热溶液一边向该溶液施加超声波，则能够使该溶液高效地产生喷雾。因此，根据该成膜装置，能够使膜在基体的表面适当地生长。

附图说明

图1为实施例1的成膜装置的结构图。

图2为实施例2的成膜装置的结构图。

图3为实施例3的成膜装置的结构图。

具体实施方式

实施例1

图1所示的成膜装置10是使膜在基板70的表面外延生长的装置。成膜装置10具备：加热炉12，其配置有基板70；加热器14，其对加热炉12进行加热；喷雾供给装置20，其与加热炉12连接；以及排出管80，其与加热炉12连接。

加热炉12的具体结构并无特别限定。作为一个例子，图1所示的加热炉12是从上游端12a延伸至下游端12b为止的管状炉。加热炉12的垂直于长度方向的剖面为圆形。但是加热炉12的剖面不限于圆形。

喷雾供给装置20与加热炉12的上游端12a连接。在加热炉12的下游端12b连接有排出管80。喷雾供给装置20将喷雾62供给到加热炉12内。由喷雾供给装置20供给至加热炉12内的喷雾62，在加热炉12内流动至下游端12b为止后，经由排出管80排出到加热炉12的外部。

在加热炉12内设置有用于支承基板70的基板台13。基板台13构成为使基板70相对于加热炉12的长度方向倾斜。由基板台13支承的基板70，以其朝向为使得在加热炉12内从上游端12a向下游端12b流动的喷雾62正冲基板70的表面的方式被支承。