[发明专利]OLED显示基板及其制作方法、显示装置有效
申请号: | 202010081411.3 | 申请日: | 2020-02-06 |
公开(公告)号: | CN111146264B | 公开(公告)日: | 2023-08-18 |
发明(设计)人: | 程磊磊 | 申请(专利权)人: | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H10K59/121 | 分类号: | H10K59/121;H10K59/131 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;张博 |
地址: | 230012 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | oled 显示 及其 制作方法 显示装置 | ||
1.一种OLED显示基板,其特征在于,包括依次位于衬底基板上的遮光层、缓冲层、有源层图形、栅绝缘层、栅极层图形、层间绝缘层、源漏极层图形、阳极、发光层和阴极,其中,所述源漏极层图形和/或所述栅极层图形采用透明导电材料制作;
所述有源层图形包括第一半导体子图形和第二有源层子图形,所述第二有源层子图形经过导体化处理,所述源漏极层图形包括与所述阳极连接的信号线,所述第二有源层子图形在所述衬底基板上的正投影与所述信号线在所述衬底基板上的正投影存在重叠区域,所述第二有源层子图形通过多个过孔与所述信号线并联;
所述第二有源层子图形与所述信号线之间未设置栅极层和栅绝缘层;
所述源漏极层图形包括与所述阳极连接的信号线,所述栅极层图形包括第一栅极层子图形和除所述第一栅极层子图形之外的第二栅极层子图形,所述第一栅极层子图形与所述信号线在所述衬底基板上的正投影存在重叠区域,所述第一栅极层子图形与所述信号线通过多个过孔并联,所述第一栅极层子图形的厚度小于所述第二栅极层子图形的厚度。
2.根据权利要求1所述的OLED显示基板,其特征在于,所述有源层图形包括第三有源层子图形,所述第三有源层子图形经过导体化处理,所述源漏极层图形包括存储电容极板,所述第三有源层子图形在所述衬底基板上的正投影与所述存储电容极板在所述衬底基板上的正投影存在重叠区域,所述第三有源层子图形与所述存储电容极板组成所述OLED显示基板的第一存储电容。
3.根据权利要求2所述的OLED显示基板,其特征在于,所述阳极在所述衬底基板上的正投影与所述存储电容极板在所述衬底基板上的正投影存在重叠区域,所述存储电容极板与所述阳极组成所述OLED显示基板的第二存储电容。
4.根据权利要求1所述的OLED显示基板,其特征在于,所述有源层图形包括第一半导体子图形和第二有源层子图形,所述遮光层在所述衬底基板上的正投影不超出所述第一半导体子图形在所述衬底基板上的正投影。
5.根据权利要求1所述的OLED显示基板,其特征在于,所述源漏极层图形包括与所述阳极连接的信号线,所述遮光层包括第一遮光子图形,所述第一遮光子图形与所述信号线在所述衬底基板上的正投影存在重叠区域,所述第一遮光子图形与所述信号线通过多个过孔并联。
6.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-5中任一项所述的OLED显示基板。
7.一种OLED显示基板的制作方法,其特征在于,用以制作如权利要求1-5中任一项所述的OLED显示基板,包括在衬底基板上依次形成遮光层、缓冲层、有源层图形、栅绝缘层、栅极层图形、层间绝缘层、源漏极层图形、阳极、发光层和阴极,其中,采用透明导电材料制作所述源漏极层图形和/或所述栅极层图形。
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