[发明专利]氯唑西林钠的制备工艺有效
申请号: | 202010082794.6 | 申请日: | 2020-02-07 |
公开(公告)号: | CN111205305B | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 沈灏;李京喜;吴永锋;唐鹤鸣;华军杰;张昕 | 申请(专利权)人: | 山东二叶制药有限公司 |
主分类号: | C07D499/12 | 分类号: | C07D499/12;C07D499/20;C07D499/76 |
代理公司: | 北京鼎承知识产权代理有限公司 11551 | 代理人: | 田恩涛;柯宏达 |
地址: | 274000 山东省菏泽市定陶*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 西林 制备 工艺 | ||
1.一种氯唑西林钠的制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:
(1)将6-氨基青霉烷酸溶于纯化水中,滴加10%的氢氧化钠,生成6-氨基青霉烷酸钠,反应温度为15-17℃;
(2)在有机溶剂中加入邻氯苯甲异恶唑甲酰氯,搅拌至完全溶解,控制温度为36-38℃;
(3)将(1)与(2)混合在一起,滴加稀硫酸溶液调节pH值2.8-3.2之间,搅拌使其发生缩合反应,反应温度为24-28℃,反应时间90±10分钟;
(4)向(3)中加入有机溶剂,并滴加稀硫酸溶液酸化,调节pH值2.0-2.5,静置30分钟;
(5)在有机溶剂的存在下,向(4)中加入成盐剂异辛酸钠,控制温度为35-40℃;
(6)搅拌结晶,控温0-5℃搅拌2-6h,过滤得到氯唑西林钠晶体,用有机溶剂洗涤两次,40-60℃真空干燥得到氯唑西林钠晶体;
其中,6-氨基青霉烷酸、邻氯苯甲异恶唑甲酰氯和异辛酸钠的质量比为1:1.0-1.5:1.2-1.5;
所述有机溶剂选自:乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸丙酯及其混合物。
2.根据权利要求1所述的制备工艺,其特征在于,所述稀硫酸溶液的浓度为10%-70%。
3.根据权利要求1所述的制备工艺,其特征在于,还包括将所述氯唑西林钠晶体粉碎并过40-100目筛。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山东二叶制药有限公司,未经山东二叶制药有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010082794.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C07D 杂环化合物
C07D499-00 杂环化合物,含有4-硫杂-1-氮杂双环[3.2.0]庚烷环系,即含有下式环系的化合物 ,例如,青霉素,青霉烯;这类环系进一步稠合,例如与含氧、含氮或含硫杂环2,3-稠合
C07D499-04 .制备
C07D499-21 .有氮原子直接连在位置6和3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-86 .只有1个除氮原子外的原子直接连在位置6,3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-87 .在位置3未取代或在位置3连有除仅两个甲基外的取代基,并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2的化合物
C07D499-88 .在位置2和3之间有双键并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基和氰基,直接连在位置2的化合物