[发明专利]光调制器件和包括光调制器件的电子装置

权利要求书

1.一种光调制器件，包括：

可变反射镜，所述可变反射镜包括多个栅格结构，所述多个栅格结构包括折射率基于材料的温度而变化的材料；

分布式布拉格反射镜，所述分布式布拉格反射镜与所述可变反射镜间隔开且设置在所述可变反射镜上方，所述分布式布拉格反射镜包括交替堆叠的第一材料层和第二材料层，并且所述第一材料层的折射率与所述第二材料层的折射率不同；以及

加热部，所述加热部被配置为向所述多个栅格结构施加热量并且与所述分布式布拉格反射镜相对地设置在所述可变反射镜下方。

2.根据权利要求1所述的光调制器件，还包括：间隔层，所述间隔层设置在所述可变反射镜与所述分布式布拉格反射镜之间，所述间隔层被配置为提供谐振距离。

3.根据权利要求2所述的光调制器件，其中，所述间隔层包括折射率小于所述多个栅格结构的折射率的材料。

4.根据权利要求1所述的光调制器件，其中，所述多个栅格结构以特定的周期设置在与所述第一材料层和所述第二材料层被堆叠的方向垂直的方向上。

5.根据权利要求1所述的光调制器件，其中，所述加热部包括加热器，所述加热器被电加热并且被配置为加热所述多个栅格结构。

6.根据权利要求5所述的光调制器件，其中，所述加热部包括：

电阻器，所述电阻器被配置为加热所述多个栅格结构；以及

电路元件层，所述电路元件层被配置为向所述电阻器供应电流。

7.根据权利要求6所述的光调制器件，其中，所述电阻器包括：

多个子电阻器，所述多个子电阻器被配置为加热所述可变反射镜的划分区域。

8.根据权利要求1所述的光调制器件，还包括：元光学器件，所述元光学器件与所述可变反射镜相对地设置在所述分布式布拉格反射镜上方，所述元光学器件包括多个纳米结构。

9.根据权利要求8所述的光调制器件，其中，所述多个纳米结构的形状分布被设置为：基于所述多个栅格结构的折射率的变化来增大所述可变反射镜与所述分布式布拉格反射镜之间的相位调制范围。

10.根据权利要求1所述的光调制器件，还包括：衬底，所述衬底包括通孔和设置在所述通孔中的金属塞，所述衬底被配置为支撑所述加热部。

11.根据权利要求10所述的光调制器件，还包括：热沉，所述热沉设置在所述衬底的与所述加热部相对的表面上。

12.一种光束转向器件，包括：

衬底；

相位调制器件，所述相位调制器件包括重复设置在所述衬底上的多个相位调制通道，

其中，所述多个相位调制通道中的每个相位调制通道包括：

可变反射镜，所述可变反射镜包括多个栅格结构，所述多个栅格结构中的每个栅格结构包括折射率基于材料的温度而变化的材料，以及

分布式布拉格反射镜，所述分布式布拉格反射镜与所述可变反射镜间隔开且设置在所述可变反射镜上方，所述分布式布拉格反射镜包括交替堆叠的第一材料层和第二材料层，所述第一材料层的折射率与所述第二材料层的折射率不同；

加热部，所述加热部设置在所述衬底与所述相位调制器件之间，所述加热部被配置为向所述多个栅格结构中的每个栅格结构施加热量；以及

控制器，所述控制器被配置为向所述加热部施加控制信号。

13.根据权利要求12所述的光束转向器件，还包括：沟道，所述沟道设置在所述多个相位调制通道之中相邻的相位调制通道之间。

14.根据权利要求13所述的光束转向器件，其中，所述沟道包括：被配置为防止相邻的相位调制通道之间的热传递的空气沟道、真空沟道或绝热沟道。