[发明专利]一种提高压延铜箔表面粗糙度的方法

权利要求书

1.一种提高压延铜箔表面粗糙度的方法，其特征在于，包括如下步骤：

第一步：以厚度为4μm-12μm的压延铜箔为原材料，将其放入卷曲机上；

第二步：开启平整辊，平整辊表面粗糙度根据需要进行调整；

第三步：开启液氮喷枪，利用液氮将平整辊表面温度降低到-100℃以下；

第四步：调整平整辊辊缝厚度至压延铜箔原材料厚度，将压延铜箔穿过平整辊；

第五步：开启平整辊后方的液体二氧化碳喷枪，利用液体二氧化碳对经过平整辊的压延铜箔表层进行处理，实现压延铜箔表面粗糙度增加，而不改变铜箔的厚度。

2.根据权利要求1所述提高压延铜箔表面粗糙度的方法，其特征在于，所述平整辊的粗糙度为Ra0.1～Ra1.6。

3.根据权利要求1所述提高压延铜箔表面粗糙度的方法，其特征在于，所述平整辊包括上平整辊和下平整辊，二者均需进行粗糙度调整。

4.根据权利要求3所述提高压延铜箔表面粗糙度的方法，其特征在于，所述液氮喷枪包括上液氮喷枪和下液氮喷枪，分别向上平整辊和下平整辊喷射液氮。

5.根据权利要求1所述提高压延铜箔表面粗糙度的方法，其特征在于，所述液体二氧化碳喷枪包括上液态二氧化碳喷枪和下液态二氧化碳喷枪，分别向压延铜箔的上下表面喷射液体二氧化碳。

6.根据权利要求1所述提高压延铜箔表面粗糙度的方法，其特征在于，所述第五步之后，将处理后的压延铜箔进行卷曲，或者，直接将压延铜箔与锂箔进行锂/铜/锂叠轧。