[发明专利]一种阵列基板的制作方法、阵列基板和显示面板

权利要求书

1.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成源漏极层和隔离柱；在所述源漏极层上形成平坦层；

设置阳极材料，并对所述阳极材料进行构图工艺，形成阳极层以及包覆于所述隔离柱的保护层，在所述阳极层上形成像素界定层；所述设置阳极材料，包括：通过溅射成膜工艺，在所述平坦层和所述隔离柱上覆盖所述阳极材料；

通过构图工艺，去除所述保护层以露出所述隔离柱包括：涂布光刻胶，以覆盖所述像素界定层和所述保护层；通过曝光显影，去除所述保护层对应位置处的所述光刻胶，以露出所述保护层；通过湿刻法，去除所述保护层以露出所述隔离柱；

其中，所述隔离柱包括：从靠近所述衬底基板到远离所述衬底基板的方向依次设置的第一金属层、第二金属层和第三金属层；其中，所述第一金属层和第三金属层的材料均为钛；所述第二金属层的材料为铝。

2.根据权利要求1所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，在形成隔离柱之前，还包括：

在衬底基板上，从靠近所述衬底基板到远离所述衬底基板的方向，依次形成聚酰亚胺层、隔离缓冲层、遮光层和层间介质层。

3.根据权利要求2所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述形成隔离柱，包括：

在所述层间介质层上，形成所述源漏极层和所述隔离柱。

4.根据权利要求1所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述去除所述保护层以露出所述隔离柱之后，还包括：

对所述第二金属层进行刻蚀，以使所述隔离柱呈工字型。

5.一种阵列基板，其特征在于，采用如权利要求1至4任意一项所述的阵列基板的制作方法制得。

6.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求5所述的阵列基板。