[发明专利]制造光纤玻璃基材的方法有效

专利信息
申请号: 202010091735.5 申请日: 2020-02-13
公开(公告)号: CN111559858B 公开(公告)日: 2023-06-13
发明(设计)人: 浦田佑平 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: C03B37/014 分类号: C03B37/014
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 许剑桦
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 制造 光纤 玻璃 基材 方法
【说明书】:

本申请提供了一种制造光纤玻璃纤维基材的方法,该方法能够在玻璃颗粒沉积物储存于储存腔室中时防止外来物质例如金属杂质附接在玻璃颗粒沉积物上或与它混合,并获得具有低传输损失的光纤,制造光纤玻璃基材的方法包括将通过蒸气相轴向沉积(VAD)方法制备的玻璃颗粒沉积物储存在储存腔室中,其中,在储存腔室中的氯化氢浓度保持在2ppm或更低,且在储存腔室中的湿度优选是保持在12g/msupgt;3/supgt;或更低。储存腔室有空气供给口和排气口,且从排气口排出的气体通过使用鼓风扇而从供给口重新供给至储存腔室中。化学过滤器设置在排气口和鼓风扇之间。优选是,除湿器设置在排气口和鼓风扇之间。

技术领域

本发明涉及一种制造光纤玻璃基材的方法,该光纤玻璃基材用于通过拉制来制造光纤。

背景技术

光纤的一个重要特征是低传输损失。为了提供沿光纤径向方向的折射率分布,各种类型的掺杂剂掺入至作为基材的合成石英中。在这种情况下,掺杂剂在改变折射率的同时并不需要自身用作重要的传输损失因素。

在蒸气相轴向沉积(VAD)方法中制造光纤基材时,作为玻璃材料的四氯化硅和四氯化锗供给至氢氧火焰中,以便产生二氧化硅和二氧化锗,它们再沉积在起始材料上,以便获得玻璃颗粒沉积物。

在这种情况下,通过VAD方法制备的玻璃颗粒沉积物包含水分,该水分认为是增加光纤传输损失的因素。因此,通过在包含氯基气体的大气中加热玻璃颗粒沉积物而进行脱水,作为用于透明玻璃化的烧结处理的一部分。另外,在透明玻璃化之前,外来物质(例如漂浮在大气中的金属微粒)可能意外地粘附在玻璃颗粒沉积物上或与玻璃颗粒沉积物混合。包含在大气中的这些外来物质也增加了通过透明玻璃化和拉制来获得的光纤的传输损失。

为了防止在大气中的这些外来物质意外地与玻璃颗粒沉积物混合,已知一种通过将制造的玻璃颗粒沉积物储存在储存腔室(隔离室)中而防止外来物质粘附在玻璃颗粒沉积物上的技术,具有很少灰尘的清洁气体引入该储存腔室中,直至下一个烧结处理(见专利文献1)。

引文清单

专利文献

专利文献1:日本未审查专利申请公开No.2003-286035。

发明内容

通过VAD方法制备的玻璃颗粒沉积物包含在制造过程中由氢氧火焰和四氯化硅或四氯化锗之间的反应而产生的氯化氢。当这种玻璃颗粒沉积物储存在储存腔室中时,氯化氢从沉积物排出至储存腔室中。因此,在储存腔室内的结构、管道材料等可能被腐蚀,且由腐蚀而产生的外来物质(例如锈)可能漂浮在储存腔室内的大气中。这种外来物质可能污染玻璃颗粒沉积物。

为了储存具有较大尺寸和重量为10kg或更大的玻璃颗粒沉积物,储存腔室应当有坚固和结实的金属结构。不过,当储存腔室中的结构腐蚀和产生锈时,该锈可能漂浮在储存腔室中的大气中,并可能在某些情况下与玻璃颗粒沉积物混合或粘附。另外,即使当在清洁储存腔室中循环的清洁气体引入作为储存腔室中的气体时,也很难防止在储存腔室中产生外来物质。

即使当意外的金属杂质在储存腔室中混合时,它也可以通过烧结处理而除去。不过,当粘附大量金属时,很难完全除去它。因此,光纤的传输损失可能不利地增加。

本发明的目的是提供一种制造光纤玻璃基材的方法,该方法能够防止外来物质例如金属杂质附接在玻璃颗粒沉积物上或与它混合(在储存于储存腔室中时),并获得具有低传输损失的光纤。

为了解决该问题,根据本发明,提供了一种制造光纤玻璃基材的方法。该方法包括将通过蒸气相轴向沉积(VAD)方法制备的玻璃颗粒沉积物储存在储存腔室中。在储存腔室中的氯化氢浓度保持在2ppm或更低,且储存腔室中的湿度优选是保持在12g/m3或更低。

储存腔室有空气供给口和排气口,且从排气口排出的气体通过使用鼓风扇而从供给口重新供给至储存腔室中。

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