[发明专利]一种柔性基板及其制备方法、柔性显示基板有效

专利信息
申请号: 202010092387.3 申请日: 2020-02-14
公开(公告)号: CN113270563B 公开(公告)日: 2023-09-05
发明(设计)人: 杨静 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H10K71/00 分类号: H10K71/00;H10K50/80;H10K77/10;G09F9/30
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 陶丽;曲鹏
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 柔性 及其 制备 方法 显示
【权利要求书】:

1.一种柔性基板,其特征在于,包括多个间隔的岛区和连接在不同岛区间的多个桥区,所述桥区包括多个岛间连接线,所述柔性基板在非岛区且非桥区的区域具有多个阵列排布的开口,每个岛区上设有多个层结构,所述层结构包括从下往上依次设置的第一柔性基底层、第一缓冲层和第二柔性基底层,所述第一缓冲层朝向所述第一柔性基底层一侧的表面在所述第一柔性基底层上的正投影大于所述第一柔性基底层朝向第一缓冲层一侧的表面在所述第一柔性基底层上的正投影,以减少所述多个岛间连接线的断裂;

所述第一柔性基底层、第一缓冲层和第二柔性基底层上设置有相互贯通的过孔,所述过孔的位置与所述开口的位置相对应。

2.根据权利要求1所述的柔性基板,其特征在于,所述开口与所述第一柔性基底层的连接面为坡面,所述第一柔性基底层远离所述第一缓冲层一侧的表面在所述第一柔性基底层上的正投影大于所述第一柔性基底层朝向所述第一缓冲层一侧的表面在所述第一柔性基底层上的正投影。

3.根据权利要求1所述的柔性基板,其特征在于,所述开口与所述第二柔性基底层的连接面为坡面,所述第二柔性基底层朝向所述第一缓冲层一侧的表面在所述第一柔性基底层上的正投影大于所述第二柔性基底层远离所述第一缓冲层一侧的表面在所述第一柔性基底层上的正投影。

4.根据权利要求1所述的柔性基板,其特征在于,所述层结构还包括第二缓冲层和第三柔性基底层,其中:

所述第二缓冲层设置在所述第二柔性基底层远离所述第一缓冲层的一侧;

所述第三柔性基底层设置在所述第二缓冲层远离所述第二柔性基底层的一侧,所述第二缓冲层朝向第二柔性基底层一侧的表面在所述第一柔性基底层上的正投影大于所述第二柔性基底层朝向第二缓冲层一侧的表面在所述第一柔性基底层上的正投影。

5.根据权利要求4所述的柔性基板,其特征在于,所述第一柔性基底层、第一缓冲层、第二柔性基底层、第二缓冲层和第三柔性基底层上设置有相互贯通的过孔,所述过孔的位置与所述开口的位置相对应。

6.一种柔性显示基板,其特征在于,包括从下往上依次设置的柔性基板、薄膜晶体管层、有机发光层和封装薄膜层,所述柔性基板包括多个间隔的岛区和连接在不同岛区间的多个桥区,所述桥区包括多个岛间连接线,所述柔性基板在非岛区且非桥区的区域具有多个阵列排布的开口,每个岛区上设有多个层结构,所述层结构包括从下往上依次叠加的第一柔性基底层、第一缓冲层和第二柔性基底层,所述第一缓冲层朝向所述第一柔性基底层一侧的表面在所述第一柔性基底层上的正投影大于所述第一柔性基底层朝向第一缓冲层一侧的表面在所述第一柔性基底层上的正投影,以减少所述多个岛间连接线的断裂;

所述第一柔性基底层、第一缓冲层和第二柔性基底层上设置有相互贯通的过孔,所述过孔的位置与所述开口的位置相对应。

7.根据权利要求6所述的柔性显示基板,其特征在于,所述封装薄膜层覆盖所述有机发光层远离所述第一柔性基底层的一侧的表面,并覆盖所述第一柔性基底层、第一缓冲层、第二柔性基底层和薄膜晶体管层在靠近所述开口一侧的侧壁。

8.一种柔性基板的制备方法,其特征在于,所述柔性基板包括多个间隔的岛区和连接在不同岛区间的多个桥区,所述桥区包括多个岛间连接线,所述柔性基板在非岛区且非桥区的区域具有多个阵列排布的开口,所述制备方法包括:

在刚性衬底基板上依次形成第一柔性基底层和第一缓冲层,所述第一缓冲层上设置有第一过孔;

对所述第一柔性基底层进行处理,以使得所述第一过孔贯穿所述第一柔性基底层,且所述第一缓冲层朝向第一柔性基底层一侧的表面在所述刚性衬底基板上的正投影大于所述第一柔性基底层朝向第一缓冲层一侧的表面在所述刚性衬底基板上的正投影,以减少所述多个岛间连接线的断裂,所述第一过孔的位置与所述开口的位置相对应;

在所述第一缓冲层远离所述第一柔性基底层的一侧形成第二柔性基底层;

对所述第二柔性基底层进行处理,以使得所述第一过孔贯穿所述第二柔性基底层;

剥离所述刚性衬底基板,得到所述柔性基板。

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