[发明专利]金属氧化物蚀刻液组合物及蚀刻方法

权利要求书

1.蚀刻液组合物，它是用于对含铟(In)的金属氧化物及含锌(Zn)和In的金属氧化物进行蚀刻的蚀刻液组合物，其特征在于，

包含至少1种酸和水，

酸的某一解离阶段的25℃的酸解离常数pKa在2.15以下，

25℃的氢离子浓度pH在4以下；

其中，在包含氢卤酸、高卤酸、KNO₃、CH₃COOK、KHSO₄、KH₂PO₄、K₂SO₄、K₂HPO₄或K₃PO₄的蚀刻液组合物和酸为乙二酸的情况下，不包括包含选自下组的聚磺酸化合物、聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段共聚物、萘磺酸缩合物、氢氧化季铵类、碱金属类的氢氧化物、除三乙醇胺外的烷醇胺类、羟胺类、硫酸铵、氨基磺酸铵和硫代硫酸铵的至少1种化合物的蚀刻液组合物。

2.如权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于，金属氧化物还包含选自铝、镓和锡的至少1种元素。

3.如权利要求1或2所述的蚀刻液组合物，其特征在于，酸为无机酸、磺酸或乙二酸。

4.如权利要求3所述的蚀刻液组合物，其特征在于，无机酸为硫酸、氨基磺酸、过一硫酸、磷酸、亚磷酸、次磷酸或硝酸。

5.如权利要求3所述的蚀刻液组合物，其特征在于，磺酸为甲磺酸、乙磺酸、对甲苯磺酸、樟脑磺酸或萘磺酸甲醛缩合物。

6.如权利要求1～5中的任一项所述的蚀刻液组合物，其特征在于，对于由含In的金属氧化物形成的层及由含Zn和In的金属氧化物形成的层的厚度方向的蚀刻速度均为10nm/分钟以上，200nm/分钟以下。

7.如权利要求1～6中的任一项所述的蚀刻液组合物，其特征在于，不含乙酸。

8.如权利要求1～7中的任一项所述的蚀刻液组合物，其特征在于，还包含水溶性有机溶剂。

9.蚀刻方法，其特征在于，使用权利要求1～8中的任一项所述的蚀刻液组合物，对在其表面具有包含含In的金属氧化物或含Zn和In的金属氧化物的层的基板进行蚀刻。

10.布线基板，其特征在于，通过权利要求9所述的方法，对在其表面具有包含含In的金属氧化物或含Zn和In的金属氧化物的层的基板进行蚀刻而得。

11.布线基板的制造方法，其特征在于，包括下述工序：使用权利要求1～8中的任一项所述的蚀刻液组合物，对在其表面具有包含含In的金属氧化物或含Zn和In的金属氧化物的层的基板进行蚀刻。